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テルモセラ・ジャパン株式会社

住所東京都中央区日本橋3-2-14 　新槇町ビル別館第一 2階
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◉ nanoETCH ソフトエッチング装置 ◉ nanoETCH ソフトエッチング装置
□■□MiniLabシリーズ実験装置□■□ □■□MiniLabシリーズ実験装置□■□
◉ 【MiniLab-026】小型真空蒸着装置 ◉ 【MiniLab-026】小型真空蒸着装置
◉ 【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置 ◉ 【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置
◉ 【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置 ◉ 【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置
◉ 【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置 ◉ 【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置
【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置 【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置
□■□薄膜実験装置（コンパクトタイプ）□■□ □■□薄膜実験装置（コンパクトタイプ）□■□
◉ nanoPVD-S10A マグネトロンスパッタリング装置 ◉ nanoPVD-S10A マグネトロンスパッタリング装置
◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置 ◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置
◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置 ◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置
◉ nanoCVD-8G/8N グラフェン/CNT合成装置 ◉ nanoCVD-8G/8N グラフェン/CNT合成装置
◉ Nanofurnace "BWS-NANO" 熱CVD装置 ◉ Nanofurnace "BWS-NANO" 熱CVD装置
◇◆成膜コンポーネント◆◇ ◇◆成膜コンポーネント◆◇
□■□超高温小型実験炉シリーズ□■□ □■□超高温小型実験炉シリーズ□■□
◉ Mini-BENCH超高温小型卓上実験炉 Max2200℃ ◉ Mini-BENCH超高温小型卓上実験炉 Max2200℃
◉ TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃ ◉ TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃
● MiniLab-WCF超高温ウエハーアニール炉2200℃ ● MiniLab-WCF超高温ウエハーアニール炉2200℃
◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆ ◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆
□■□基板加熱ヒーター□■□ □■□基板加熱ヒーター□■□
◉ BHシリーズ基板加熱ヒーター Max 1600℃ ◉ BHシリーズ基板加熱ヒーター Max 1600℃
◉ SHシリーズ基板加熱ヒーター Max 1100℃ ◉ SHシリーズ基板加熱ヒーター Max 1100℃
◉ ホットステージ「基板加熱機構」Max 1800℃ ◉ ホットステージ「基板加熱機構」Max 1800℃
◆HTEヒーター◆ 高真空るつぼ加熱ヒーター Max1500℃ ◆HTEヒーター◆ 高真空るつぼ加熱ヒーター Max1500℃
□■□温度センサー□■□ □■□温度センサー□■□
□■□赤外線温度計測機器□■□ □■□赤外線温度計測機器□■□
◉ 小型・高精度赤外線放射温度センサー ◉ 小型・高精度赤外線放射温度センサー
◉ USB接続式・放射率可変 高温用赤外線放射温度センサー ◉ USB接続式・放射率可変 高温用赤外線放射温度センサー
◉ 本質安全防爆型赤外線放射温度センサー ◉ 本質安全防爆型赤外線放射温度センサー
◉ スマートホン設定式赤外線放射温度センサー ◉ スマートホン設定式赤外線放射温度センサー
□■□MiniLabシリーズ実験装置□■□

□■□MiniLabシリーズ実験装置□■□

「MiniLab series実験装置」は、豊富なオプションから必要な膜種・用途に応じて都度適切なモジュール選択をすることにより、カスタマイズ品でありながら無駄が無くコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play感覚で搭載することにより応用範囲が広がり、様々なプロセス実験装置への応用が可能になります。

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用） 4元マルチスパッタ（Φ6, 8inch用）

連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング） ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Soft-Etching(＜30W） システム主制御：'IntelliDep'制御システム Windows PC（又はTP HMI）インターフェイス 全ての操作を一箇所のHMI画面で一元管理

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多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用） 4元マルチスパッタ（Φ6, 8inch用）

連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング） ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Soft-Etching(＜30W） システム主制御：'IntelliDep'制御システム Windows PC（又はTP HMI）インターフェイス 全ての操作を一箇所のHMI画面で一元管理

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