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テルモセラ・ジャパン株式会社

住所東京都中央区日本橋3-2-14 　新槇町ビル別館第一 2階
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◉ nanoETCH ソフトエッチング装置 ◉ nanoETCH ソフトエッチング装置
□■□MiniLabシリーズ実験装置□■□ □■□MiniLabシリーズ実験装置□■□
◉ 【MiniLab-026】小型真空蒸着装置 ◉ 【MiniLab-026】小型真空蒸着装置
◉ 【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置 ◉ 【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置
◉ 【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置 ◉ 【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置
◉ 【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置 ◉ 【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置
【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置 【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置
□■□薄膜実験装置（コンパクトタイプ）□■□ □■□薄膜実験装置（コンパクトタイプ）□■□
◉ nanoPVD-S10A マグネトロンスパッタリング装置 ◉ nanoPVD-S10A マグネトロンスパッタリング装置
◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置 ◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置
◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置 ◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置
◉ nanoCVD-8G/8N グラフェン/CNT合成装置 ◉ nanoCVD-8G/8N グラフェン/CNT合成装置
◉ Nanofurnace "BWS-NANO" 熱CVD装置 ◉ Nanofurnace "BWS-NANO" 熱CVD装置
◇◆成膜コンポーネント◆◇ ◇◆成膜コンポーネント◆◇
□■□超高温小型実験炉シリーズ□■□ □■□超高温小型実験炉シリーズ□■□
◉ Mini-BENCH超高温小型卓上実験炉 Max2200℃ ◉ Mini-BENCH超高温小型卓上実験炉 Max2200℃
◉ TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃ ◉ TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃
● MiniLab-WCF超高温ウエハーアニール炉2200℃ ● MiniLab-WCF超高温ウエハーアニール炉2200℃
◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆ ◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆
□■□基板加熱ヒーター□■□ □■□基板加熱ヒーター□■□
◉ BHシリーズ基板加熱ヒーター Max 1600℃ ◉ BHシリーズ基板加熱ヒーター Max 1600℃
◉ SHシリーズ基板加熱ヒーター Max 1100℃ ◉ SHシリーズ基板加熱ヒーター Max 1100℃
◉ ホットステージ「基板加熱機構」Max 1800℃ ◉ ホットステージ「基板加熱機構」Max 1800℃
◆HTEヒーター◆ 高真空るつぼ加熱ヒーター Max1500℃ ◆HTEヒーター◆ 高真空るつぼ加熱ヒーター Max1500℃
□■□温度センサー□■□ □■□温度センサー□■□
□■□赤外線温度計測機器□■□ □■□赤外線温度計測機器□■□
◉ 小型・高精度赤外線放射温度センサー ◉ 小型・高精度赤外線放射温度センサー
◉ USB接続式・放射率可変 高温用赤外線放射温度センサー ◉ USB接続式・放射率可変 高温用赤外線放射温度センサー
◉ 本質安全防爆型赤外線放射温度センサー ◉ 本質安全防爆型赤外線放射温度センサー
◉ スマートホン設定式赤外線放射温度センサー ◉ スマートホン設定式赤外線放射温度センサー
□■□薄膜実験装置（コンパクトタイプ）□■□

□■□薄膜実験装置（コンパクトタイプ）□■□

研究開発用途に特化した『省スペース』『高機能』『低価格』な真空薄膜実験装置を揃えております。 ◉ nanoPVD-S10A マグネトロン式スパッタリング装置 ◉ nanoPVD-T15A 有機膜・金属膜蒸着装置 ◉ nanoPVD-ST15A 蒸着・スパッタ複合型成膜装置 ◉ nanoCVD-8G/8N グラフェン/CNT合成装置 ◉ nanoETCH ソフトエッチング装置 ◉ Mini-BENCH超高温小型卓上実験炉 ◉ Mini-BENCH-prism超高温小型実験炉 いずれもコンパクトな装置でありながら、決して性能は妥協しない高性能装置です。 今後も研究開発分野に寄与すべく新装置ラインナップを拡充する予定です。