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テルモセラ・ジャパン株式会社

住所東京都中央区日本橋3-2-14 　新槇町ビル別館第一 2階
電話03-6214-3033
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◉ nanoETCH ソフトエッチング装置 ◉ nanoETCH ソフトエッチング装置
□■□MiniLabシリーズ実験装置□■□ □■□MiniLabシリーズ実験装置□■□
◉ 【MiniLab-026】小型真空蒸着装置 ◉ 【MiniLab-026】小型真空蒸着装置
◉ 【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置 ◉ 【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置
◉ 【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置 ◉ 【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置
◉ 【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置 ◉ 【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置
【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置 【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置
□■□薄膜実験装置（コンパクトタイプ）□■□ □■□薄膜実験装置（コンパクトタイプ）□■□
◉ nanoPVD-S10A マグネトロンスパッタリング装置 ◉ nanoPVD-S10A マグネトロンスパッタリング装置
◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置 ◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置
◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置 ◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置
◉ nanoCVD-8G/8N グラフェン/CNT合成装置 ◉ nanoCVD-8G/8N グラフェン/CNT合成装置
◉ Nanofurnace "BWS-NANO" 熱CVD装置 ◉ Nanofurnace "BWS-NANO" 熱CVD装置
◇◆成膜コンポーネント◆◇ ◇◆成膜コンポーネント◆◇
□■□超高温小型実験炉シリーズ□■□ □■□超高温小型実験炉シリーズ□■□
◉ Mini-BENCH超高温小型卓上実験炉 Max2200℃ ◉ Mini-BENCH超高温小型卓上実験炉 Max2200℃
◉ TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃ ◉ TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃
● MiniLab-WCF超高温ウエハーアニール炉2200℃ ● MiniLab-WCF超高温ウエハーアニール炉2200℃
◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆ ◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆
□■□基板加熱ヒーター□■□ □■□基板加熱ヒーター□■□
◉ BHシリーズ基板加熱ヒーター Max 1600℃ ◉ BHシリーズ基板加熱ヒーター Max 1600℃
◉ SHシリーズ基板加熱ヒーター Max 1100℃ ◉ SHシリーズ基板加熱ヒーター Max 1100℃
◉ ホットステージ「基板加熱機構」Max 1800℃ ◉ ホットステージ「基板加熱機構」Max 1800℃
◆HTEヒーター◆ 高真空るつぼ加熱ヒーター Max1500℃ ◆HTEヒーター◆ 高真空るつぼ加熱ヒーター Max1500℃
□■□温度センサー□■□ □■□温度センサー□■□
□■□赤外線温度計測機器□■□ □■□赤外線温度計測機器□■□
◉ 小型・高精度赤外線放射温度センサー ◉ 小型・高精度赤外線放射温度センサー
◉ USB接続式・放射率可変 高温用赤外線放射温度センサー ◉ USB接続式・放射率可変 高温用赤外線放射温度センサー
◉ 本質安全防爆型赤外線放射温度センサー ◉ 本質安全防爆型赤外線放射温度センサー
◉ スマートホン設定式赤外線放射温度センサー ◉ スマートホン設定式赤外線放射温度センサー
◉

◉ SHシリーズ基板加熱ヒーター Max 1100℃

◉ 対応サイズ：φ1inch〜φ6inch ◉ 使用雰囲気： - 真空, 不活性ガス（SH-BN） - 真空, O2, 大気, 不活性/活性ガス中（SH-IN） ◉ 最高使用温度： - Max 1100℃（SH-BN *O2不可） - Max 850℃（SH-IN）