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【ExTemp】本質安全防爆型赤外線放射温度センサー

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ExTemp

最終更新日:2024年10月12日

テルモセラ・ジャパン株式会社
テルモセラ・ジャパン株式会社
  • 公式サイト

TIIS(産業安全技術協会)検定取得 本質安全防爆型放射温度センサー 危険場所(Zone0, 1, & 2)で使用可能

ExTempは、石油化学プラント・医薬品工場・薬品工場などの危険物取扱設備や工場で使用することができる本質安全防爆構造の放射温度センサーです。 (TIIS型式検定合格番号:第21097号)

    その他計測器
ExTemp_550.jpg

【ExTemp】本質安全防爆型赤外線放射温度センサー

ExTemp_550.jpg
ExTemp_550.jpg
  • 関連リンク - https://www.thermocera.com/products/irtemperature/…

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基本情報

● 危険場所Zone 0、1 及び2(特別危険箇所、第一類危険箇所及び第二類危険箇所)で使用可 ● 測定温度範囲:-20℃ ~ +1000℃ ● 最大最小設定可能スパン:Max1000℃, Mini100℃(-20〜1000℃範囲で設定可能) ● 2線式、4-20mA出力 ● 本質安全防爆絶縁バリヤ付属 ● USB接続コンフィグレーション設定器「LCT設定器」付属:WindowsPCで付属の専用ソフトでスケーリング・スパン調整・放射率などの設定が可能 ● オプション:固定金具, エアパージキット, 延長ケーブル(10m, 25m) ● 過酷な環境に対応、316 ステンレス容器採用 ● 保護等級IP65

価格情報

-

納期

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用途/実績例

石油化学、製油所、医薬品、他爆発性ガス雰囲気での温度測定

詳細情報

  • ExTemp_550-2.png

    ExTemp放射温度センサー ExTemp本質安全防爆型赤外線放射温度センサー

  • LCT_550.png

    LCT設定器 WindowsPCとUSB接続、専用ソフトウエア(標準付属)で下記の各種設定が可能。 ・放射率 ・反射率 ・温度スパン(-20〜1000℃の間で、最大1000℃、最小100℃のスパンを設定) ・4-20mAスケーリング ・平均値 ・ピーク&バレーホールド

  • ABL.jpg

    ABLアングル式固定金具 角度調整式

  • APM.jpg

    APMエアパージジャケット APMW(EX-21専用) APMN(EX-151, 301, CF用)

ラインアップ(4)

型番 概要
Ex-21(視野角2:1) -LT(-20〜100℃), -MT(0〜250℃), -HT(0〜500℃), -ST(特注設定温度範囲)
Ex-151(視野角15:1) -LT(-20〜100℃), -MT(0〜250℃), -HT(0〜500℃), -ST(特注設定温度範囲)
Ex-301(視野角30:1) -LT(-20〜100℃), -MT(0〜250℃), -HT(0〜500℃), -ST(特注設定温度範囲)
Ex-CF(狭視野角モデル) -LT(-20〜100℃), -MT(0〜250℃), -HT(0〜500℃), -ST(特注設定温度範囲)

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【ExTemp】本質安全防爆型赤外線放射温度センサー

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【PyroUSB】USB接続式 高精度赤外線温度センサー

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【PyroMini USB】USB接続式小型赤外線温度センサー

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【PyroMini】小型高性能赤外線温度センサー

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【PyroNFC】スマートホン設定式赤外線放射温度センサー

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【PyroCouple】 (パイロカップル)赤外線温度センサー

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実験炉・ヒーター_「PRODUCTS GUIDE_2024」

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薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2024」

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【nanoPVD-S10A】RF/DCマグネトロンスパッタリング装置

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【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

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★【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置★

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ソフトエッチング装置【nanoETCH】<30W低出力制御によるダメージレスエッチング

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この製品に関するニュース(37)

薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2022」

★★テルモセラ・ジャパン_薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2022」★★

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半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装置、薄膜実験装置を紹介。 研究開発分野向け、各種薄膜実験装置・コンポーネントを紹介します。 【nano Benchtopシリーズ】 卓上型・ハイパフォーマンス!nano Benchtopシリーズ薄膜実験装置 コンパクトサイズに、高機能・ハイスペックな薄膜装置を収納 【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置】 多彩な装置構成、必要なコンポーネントを要求仕様に合わせて組み合わせ構成する「フレキシブル実験装置」 ● 掲載装置 - nanoPVD-S10A卓上型マグネトロンスパッタリング装置 - nanoPVD-T15A卓上型有機膜・金属膜蒸着装置 - nanoCVDグラフェン合成装置 - ANNEAL卓上型ウエハーアニール装置 - MiniLabシリーズフレキシブル薄膜実験装置 - MiniLab-GBグローブボックス式薄膜実験装置 - 他、コンポーネント類

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MiniLab-026

★☆★☆【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置★☆★☆

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MiniLab薄膜実験装置は、豊富なオプションから必要な成膜方法・材質に応じて都度最適なコンポーネント、制御モジュールを組み込むことにより、セミカスタムメイドで無駄を省いたコンパクトな装置を構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で搭載することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。 【MiniLab薄膜実験装置 構成モジュール】 ◎ 製作範囲 抵抗加熱蒸着(TE)、有機蒸着(LTE)、電子ビーム蒸着(EB)、スパッタリング(SP)、CVD、ドライエッチング 【スモールフットプリント・省スペース】 ・シングルラックタイプ(026):590(W) x 590(D)mm ・デュアルラックタイプ(060):1200(W) x 590(D)mm ・トリプルラックタイプ(125):1770(W) x 755(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または7”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、安全にも最大限配慮しております。チャンバー内部品調整、材料交換以外の全ての操作はPC/HMI画面で行います。

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ANNEALウエハーアニール装置の製品画像

ウエハーアニール装置【ANNEAL】Max1000℃ APC自動圧力制御 MFC x3系統 Φ4〜6inch基板対応

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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置(<5 × 10-7 mbar) [ANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用アニール装置です。 高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ) ・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2)

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【TCF-C500超高温小型実験炉】画像

☆★☆ 【TCF-C500 超高温小型実験炉】Max 2900℃ ☆★☆

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コンパクト・省スペース・省エネルギー! 高性能 R&D用超高温実験炉 小片試料を最高2900℃まで加熱実験ができるR&D用超高温小型実験炉。 実験室での超高温加熱実験、新素材開発などのさまざまな焼成実験を行うことができます。 ◆主な特徴◆ ・省スペース ・ロータリーポンプ、コンプレッサー付属 ・インターロック:断水警報、過昇温、ガス圧力低下 ◆基本仕様◆ ・電源仕様:AC200V 75A NFB 50/60HZ(C-500) ・Max2900℃(カーボン炉)、2400℃(メタル炉)、 ・プログラム温度調節計、C熱電対 ◆オプション◆ ・記録計 ・ターボ分子ポンプ ・るつぼ ◆主なアプリケーション◆ ・新素材開発 ・燃料電池 ・その他

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テルモセラ・ジャパン株式会社

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【Endless possibility_thermal engineering...】 当社は半導体・電子機器基礎研究用真空薄膜装置、CVD基板加熱用超高温ヒーター、実験炉、温度計測機器などを販売しております。 いつの時代でも欠かす事のできない「熱」に対する尽きぬ需要、基礎技術開発分野での様々なご要求にお応えすべく、最新の機器を紹介し、日本の研究開発に貢献してまいりたいと考えます。

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