■Excelなどに放り込んだデータは手元にあるけれど、活用の仕方が分からない ■知識はないけれど、一度データの分析がどういうものか体験してみたい ■過去のデータからどのような未来予測が出来るのか見てみたい といったお悩み・要望を『Neural Designer』 が解決・実現します！ 『Neural Designer』でカンタンに！ 今日からすぐにAIを！ 面倒なプログラミング、Python、TensorFlow、PyTorchの知識が無くても、すぐにAI、機械学習、深層学習、ディープラーニングが使いこなせます！ もちろん既にAI、機械学習、深層学習、ディープラーニングに取り掛かっている方にもオススメです。 特に自分の本業の支援の為にプログラミングをしている方、その面倒なプログラミングから開放されて、本業に注力しませんか？

■Excelなどに放り込んだデータは手元にあるけれど、活用の仕方が分からない ■知識はないけれど、一度データの分析がどういうものか体験してみたい ■過去のデータからどのような未来予測が出来るのか見てみたい といったお悩み・要望を『Neural Designer』 が解決・実現します！ 『Neural Designer』でカンタンに！ 今日からすぐにAIを！ 面倒なプログラミング、Python、TensorFlow、PyTorchの知識が無くても、すぐにAI、機械学習、深層学習、ディープラーニングが使いこなせます！ もちろん既にAI、機械学習、深層学習、ディープラーニングに取り掛かっている方にもオススメです。 特に自分の本業の支援の為にプログラミングをしている方、その面倒なプログラミングから開放されて、本業に注力しませんか？

■Excelなどに放り込んだデータは手元にあるけれど、活用の仕方が分からない ■知識はないけれど、一度データの分析がどういうものか体験してみたい ■過去のデータからどのような未来予測が出来るのか見てみたい といったお悩み・要望を『Neural Designer』 が解決・実現します！ 『Neural Designer』でカンタンに！ 今日からすぐにAIを！ 面倒なプログラミング、Python、TensorFlow、PyTorchの知識が無くても、すぐにAI、機械学習、深層学習、ディープラーニングが使いこなせます！ もちろん既にAI、機械学習、深層学習、ディープラーニングに取り掛かっている方にもオススメです。 特に自分の本業の支援の為にプログラミングをしている方、その面倒なプログラミングから開放されて、本業に注力しませんか？

PumpLinx は、様々な容積形ポンプ、コンプレッサー、バルブの流体の過渡特性を計算するための、流体解析ソフトです。 熱流体解析ソフト Simerics MP を基盤として開発されており、Simerics MP の全ての機能を利用できます。 【以下の流体解析が可能】 ■自由表面流れ ■液体に含まれる空気の圧縮性を考慮した流れ ■圧力脈動、水撃作用 ■ポンプの流れとバルブやカムリングの剛体運動との連成 ■低中真空状態の流れ ■圧縮性流れ（亜音速） ■キャビテーション ■流れ場（速度ベクトル、 圧力）、 流量、 流体力、 トルクの時間変化 一番の強みは、他の汎用流体解析ソフトでは困難な、µm単位のクリアランスも、全自動でメッシュ作成が出来ます!! 最近では、他のCFDソフトウェアではVOFの解析に難があり、SimericsMP+へのお問い合わせを頂く事例が増えております。 SimericsMP+はVOFに強みがあり、サポートにも定評を頂いております。 ※Web上には載せられない情報が多数ございます。 特に実際のメッシュ作成と動きは、ぜひデモ実演で!!

SimericsMP+は、様々な容積形ポンプ、コンプレッサー、バルブの流体の過渡特性を計算するための、流体シミュレーション・ツールです。 熱流体シミュレーション・ツール Simerics MP を基盤として開発されており、Simerics MP の全ての機能を利用できます。 【以下の流体解析が可能】 ■自由表面流れ ■液体に含まれる空気の圧縮性を考慮した流れ ■圧力脈動、水撃作用 ■ポンプの流れとバルブやカムリングの剛体運動との連成 ■低中真空状態の流れ ■圧縮性流れ（亜音速） ■キャビテーション ■流れ場（速度ベクトル、 圧力）、 流量、 流体力、 トルクの時間変化 一番の強みは、他の汎用流体解析ソフトでは困難な、µm単位のクリアランスも、全自動でメッシュ作成が出来ます!! 最近では、自動車用や建機向けのオイルポンプで実績が増えており、例えば、パワーステアリング用やCVT用のベーンポンプ、エンジン潤滑用トロコイドポンプ等の事例が増えています。 ※Web上には載せられない情報が多数ございます。 特に実際のメッシュ作成と動きは、ぜひデモ実演で!!

CAEソフトウェア・分子モデリング・分子シミュレーションソフトウェアを組み合わせることで、より広い解析対象をカバー！ たとえば、調べたい材料表面の作成/処理過程＆材料特性など プラズマプロセス装置の解析と表面状態の特性予測をまとめて提供します！ 【解析対象となる物理現象】 ・結合と活性化 ・成膜 ・スパッタや浸食 ・脱離や洗浄　　　など 【評価可能な表面特性例】 ・原料ガスやプラズマの入射量やエネルギー、あるいは浸食/成膜速度の評価 ・物質の原子/分子データに基づきその材料特性を評価 ・入射粒子の表面反応予測 ・処理後の表面粗さ評価 ・処理前後の親水性の変化 ・処理後結晶の屈折率計算 など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

複数の解析ソフトウェアを駆使した『表面処理の特性予測ソリューション』を ご提案いたします。 解析ソフトウェアである「CAEソフトウェア」「分子モデリング」 「分子シミュレーションソフトウェア」を組み合わせることで、 より広い解析対象をカバー。 調べたい材料表面の作成/処理過程＆材料特性などプラズマプロセス装置の 解析と表面状態の特性予測をまとめて提供します。 【特長】 ■各種解析ソフトを組み合わせる事で、表面改質への様々な取組が可能 ■実験できない範囲も解析が可能 ■プラズマ解析が可能 ■新規材料探索、マテリアルズ・インフォマティクス(MI)取り組みが可能 ■お客様のご要望に応じたご相談、提案が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

本論文では、V2O5(1 0 0)表面などに 水分子が吸着した場合の挙動解析をMaterialsStudioを使用することで行っております ◇2D層の表面上の官能基と状態密度、吸着性の関係性解析などが可能です。 【製品特長】 ■「マテリアルズインフォマティクス(MI)」にも最適 ■材料開発を効率化するシュミレーションソフト ■より効率よく、より簡単に、新規材料開発に役立ちます ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい

CCP（容量結合プラズマ）装置のプラズマ解析に関する事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 電極が複数ある場合や重畳周波数を印加する場合に対しても 高速にシミュレーションを行うことができます ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

代表的なドライエッチング手法のひとつである、CCP（容量結合プラズマ）エッチングに関する解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速にエッチング率などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

代表的なドライエッチング手法のひとつである、CCP（容量結合プラズマ）エッチングに関する3Dでの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速にエッチング率などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、 RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

基盤に低ダメージな成膜手法のひとつである、対向ターゲット式スパッタの解析事例です。 3D計算は、2D計算と比較して計算コストは大きくなりますが、 より複雑な形状とそこからの影響を考慮してシミュレーションを行えます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

長い円筒パイプの内側に強い膜を成膜する方法のひとつである円筒標的を用いたマグネトロンスパッタの解析事例です Particle-PLUSで利用可能な 1)軸対称モデル 2)鏡面対称境界条件を組み合わせることで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく高速に結果を得ることができます ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、高速に結果を得ることができます ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元)3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとしてカスタマイズも可能です ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

研究開発でも機械学習やAIの活用が望まれる時代に突入したと 言われています。 当社では、機械学習やAIを活用した業務効率化のお手伝いをいたします。 経験豊富なエンジニア達が「パッケージソフト販売」、「受託解析」など お客様のニーズに応じたさまざまなプランを提案させて頂きます。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【当社取扱いソフト】 ■予測モデル構築ツール「Neural Designer」 ■プラズマ解析「Particle PLUS/DL」 ■データ・サイエンス・ツール「Pipeline Pilot」 ■材料開発解析ソフト「Materials Studio」 ■電子実験ノート「BIOVIA Notebook」 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『Particle-PLUS』はICPやCCPにも対応した プラズマを用いた装置・デバイス研究開発に適したソフトウェアです ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのシミュレーションを得意とする ・ICP シミュレーションのための誘導加熱の計算機能 ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析 ・ICP とCCP を同時にシミュレートすることが可能 ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析 ・自社開発ソフトの強みとして 　お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。 sales@wavefront.co.jp

今回は、特性値を予測することで最適な実験条件の傾向を掴むことを目的としました。 <背景> 従来から現代にかけて、どの分野に関わらずより良い特性値をもつ材料を開発することは重要な業務であり、かつ重要な課題でもあります。 また、材料の特性値は様々な要因によって左右されてしまうため材料開発の効率化も求められています。 例えば、材料開発時に使用された素材や反応時間、そして温度、ヒステリシスのような要因によっても左右されるかもしれません。 この条件全てに対して実験計画法を導入し、実際に実験、測定をしたうえで最適な条件を発見することは理想ですが、 それはコスト面や時間的観点から現実的ではありません。 そこで、 いくつかの実験条件（例えば、説明変数X1、X2、X3、X4、、、）とそれぞれの特性値（例えば、目的変数Y1、Y2）を記した少量のデータセットを使用して機械学習を実施いたしました。 今回の事例では、機械学習モデルの作成、予測精度の改善まで実現する事が「簡単に機械学習を行うこと」できました。 ※詳しくはお問い合わせください。

【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当社が自社開発した3次元希薄気体解析用のソフトウェア 『DSMC-Neutrals』では、真空装置の排気シミュレーションが可能です。 種々の物理量の計算結果の図示や、過渡的なグラフをプロットすることにより 排気システムの設計・開発において実験だけでは得ることが大変な様々な 情報を簡単に見える化できます。 詳しくは、以下のURLをご覧ください。