パーティクルカウンター 液中 レジスト・SOG KS-41B
フォトレジスト溶液やSOG中の粒子を0.1 μmから測定可能
高計数効率0 0.1μm フォトレジスト溶液やSOG中の粒子数測定に 国内製造・国内メンテナンスの充実したサポート体制!
- 企業：リオン株式会社
- 価格：応相談
レジスト - メーカー・企業6社の製品一覧とランキング | イプロス
更新日： 集計期間:2026年02月25日～2026年03月24日
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レジストのメーカー・企業ランキング
更新日： 集計期間:2026年02月25日～2026年03月24日
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- 株式会社タムラ製作所 東京都/その他
- フォトプレシジョン株式会社 東京都/その他
- ハニー化成株式会社 兵庫県/その他
- リオン株式会社 東京都/その他
- 5 オプトシリウス株式会社 東京都/商社・卸売り
レジストの製品ランキング
更新日： 集計期間:2026年02月25日～2026年03月24日
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- フレキシブル基板用ソルダーレジスト『感光性カバーレイ』 株式会社タムラ製作所
- 高アスペクト比レジスト フォトプレシジョン株式会社
- ネガ型アニオン電着フォトレジスト（開発品） ハニー化成株式会社
- パーティクルカウンター 液中 レジスト・SOG KS-41B リオン株式会社
- 4 パーティクルカウンター液中 レジスト0.15μm KS-41A リオン株式会社
レジストの製品一覧
1～10 件を表示 ／ 全 10 件
表示件数
パーティクルカウンター液中 レジスト0.15μm KS-41A
0.15μｍの粒子を、フォトレジスト溶液やSOG などから測定可能
液中パーティクルカウンター KS-41A フォトレジスト溶液やSOG中の粒子を0.15μmから測定 国内製造・国内メンテナンスの充実したサポート体制
- 企業：リオン株式会社
- 価格：応相談
AQM社 H-SiOx 粉体のレジスト
電子ビーム描画装置、EUV露光装置、ナノイン・プリントリソグラフィー向け粉体のレジスト
AQM社のH-SiOxは粉体の状態で長期保管可能で、 使う前に溶媒と混合して使用可能なネガ型レジストです。 既に溶媒に混合されたプレミックスタイプと比較すると、増粘することが無いので常に同じ膜厚を形成でき、 さらに粘度調整が可能なので、様々な膜厚を作成できます。 また、シェルフライフ（保管期間）が1年間と長いので、廃棄する無駄が少なく経済的なレジストです。 最近のテストでは7nmの線幅を実現しました。 【特徴】 ・長期間の保管が可能（1年間） ・いつでも同じ粘土で使用可能・・・使用前に溶媒と混合して使用するので増粘しません。 ・粘土を調整することで幅広い範囲の厚さの膜を作成可能 ・5nmの膜厚、7nmの解像度 ・廃棄量の削減・・・少量単位での購入可能です。 ・充実したサポート体制 ・優れたLER（Line Edge Roughness） ・ドライエッチングに対する強い耐性 詳しくはカタログをご覧いただくか、 弊社担当 北野までご連絡ください。
- 企業：オプトシリウス株式会社
- 価格：応相談
粉体提供可能なネガ型レジスト H-SiOx
電子ビーム描画装置、EUV露光装置、ナノインプリント・リソグラフィ用途 粉体と溶液の2種類を提供可能！
AQM社のH-SiOxは粉体・溶液2種類を提供可能なネガ型のレジストです。 Dow XR-154やFOXと同等の性能を提供可能です。 粉体・溶液はそれぞれに特徴がございます。 【粉体】 長期間の保管が可能：1年間保存可能なので長期間において少量ずつのご使用が可能です。 即納対応：必要な時にすぐに手に入ります。 常時同じ粘度での使用が可能：使用前に混合するので増粘しません。 濃度調整可能：アプリケーションに合わせた幅広い範囲の膜厚を作成可能です。 最高レベルの線幅：7nmの線幅を実現 【液体】 少量から購入可能：必要量に応じて対応します。 短納期：受注後1カ月以内での納品が可能です。 受注生産：より長いシェルライフでのお届けが可能です。 最高レベルの線幅：7nmの線幅を実現 お問い合わせは弊社担当【北野】まで。
- 企業：オプトシリウス株式会社
- 価格：応相談
電着レジスト
立体構造の電極形成に最低、電解メッキ方式3次元フォトリソ技術
3次元フォトリソとは、立体構造の電極形成に適した、3次元パターン形成技術 次世代の基幹技術と目されるMENSデバイスでは、立体構造に複雑かつ繊細な パターンを加工する技術が要求されます。 弊社では、液相中に基板全体を浸して金属膜を析出させる 電解メッキ方式を利用した、3次元フォトリソ技術をご提供いたします。
- 企業：フォトプレシジョン株式会社
- 価格：応相談
高アスペクト比レジスト
高アスペクト比レジスト
フォトファブリケーションを中心的技術として、 マイクロエレクトロニクス製品や光学製品をはじめとする様々な分野での 試作・開発に貢献するフォトプレシジョン社 『高アスペクト比レジスト』のご案内です。 平面のレジストパターンに高さを与えることが実現！ ■□■特徴■□■ ■レジストパターンはエッチング工程で、メタル薄膜などを エッチング液から守る膜として使用されている ■高精度のメタルパターンを実現するために、高解像度で 密着性・溶融性の高いフォトレジストが研究開発されている ■その他詳細については、カタログダウンロード もしくはお問い合わせ下さい。
- 企業：フォトプレシジョン株式会社
- 価格：応相談
『高アスペクト比レジスト』加工技術紹介
アスペクト比1：5の加工実績！幅広い分野で使用できます！
当社では、パターン線幅と膜の厚さ（＝高さ）の縦横比が高い 『高アスペクト比レジスト』による加工が可能です。 アスペクト比1：5の加工実績がございます。 当技術により、レジストパターンは単なる防御膜としてだけではなく、 微細な立体構造そのものとなり、使用用途も広がりました。 【特長】 ■アスペクト比1：5の加工実績 ■幅広い使用用途 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：フォトプレシジョン株式会社
- 価格：応相談
フレキシブル基板用ソルダーレジスト『感光性カバーレイ』
低弾性でFPCの折り曲げが容易。薄型化・軽量化、設計自由度アップに貢献
『感光性カバーレイ(PICC)』は、柔軟性・絶縁性・実装性に優れた フレキシブル基板用のソルダーレジストです。 低弾性で基板が折り曲げやすく、基板設計の自由度アップに貢献するほか、 カバーレイが不要となるため基板全体の大幅な薄型化・軽量化が可能です。 【特長】 ■最小開口サイズ80～150μmで高密度実装に好適 ■摺動試験1000万回以上(R＝5mm)でもクラックが発生しない高屈曲性 ■最外装全面をPICCのみでカバーでき、工程短縮・簡略化に貢献 ■EMIシールドを直接貼り付け可能 ■高絶縁信頼性、ライン＆スペース 25μm／25μｍ対応 ※詳しくはPDF資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
- 企業：株式会社タムラ製作所
- 価格：応相談
ネガ型アニオン電着フォトレジスト（開発品）
ネガ型アニオン
アニオン電着のネガ型フォトレジストですので現像液・剥膜液はアルカリ性になります。 現像液・剥膜液は専用品ではありません。
- 企業：ハニー化成株式会社
- 価格：応相談
電子関連・産業素材分野
マグネット・セラミック関連など！先端材料の提案でニーズの変化に速やかに対応します
大成化薬株式会社の『電子関連・産業素材分野』では、先端材料の提案で ニーズの変化に速やかに対応します。 お気軽にご相談ください。 【主要営業品目】 ■プリント基板関連 ■マグネット・セラミック関連 ■産業資材関連 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：MCCトレーディング株式会社
- 価格：応相談
