1～4 item / All 4 items
高アスペクト比レジスト
フォトファブリケーションを中心的技術として、 マイクロエレクトロニクス製品や光学製品をはじめとする様々な分野での 試作・開発に貢献するフォトプレシジョン社 『高アスペクト比レジスト』のご案内です。 平面のレジストパターンに高さを与えることが実現！ ■□■特徴■□■ ■レジストパターンはエッチング工程で、メタル薄膜などを エッチング液から守る膜として使用されている ■高精度のメタルパターンを実現するために、高解像度で 密着性・溶融性の高いフォトレジストが研究開発されている ■その他詳細については、カタログダウンロード もしくはお問い合わせ下さい。
アスペクト比1：5の加工実績！幅広い分野で使用できます！
当社では、パターン線幅と膜の厚さ（＝高さ）の縦横比が高い 『高アスペクト比レジスト』による加工が可能です。 アスペクト比1：5の加工実績がございます。 当技術により、レジストパターンは単なる防御膜としてだけではなく、 微細な立体構造そのものとなり、使用用途も広がりました。 【特長】 ■アスペクト比1：5の加工実績 ■幅広い使用用途 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ネガ型アニオン
アニオン電着のネガ型フォトレジストですので現像液・剥膜液はアルカリ性になります。 現像液・剥膜液は専用品ではありません。
マグネット・セラミック関連など！先端材料の提案でニーズの変化に速やかに対応します
大成化薬株式会社の『電子関連・産業素材分野』では、先端材料の提案で ニーズの変化に速やかに対応します。 お気軽にご相談ください。 【主要営業品目】 ■プリント基板関連 ■マグネット・セラミック関連 ■産業資材関連 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
