無加圧で噴霧する『超音波スプレーノズル』シリーズ

基本情報

【【ソニア社製及びソノシス社製超音波スプレーノズル】】 スプレーノズル×超音波発振機による無加圧微粒子噴霧 ピエゾセラミックの振動による超音波がスプレーノズルに伝わり、液体膜を振動させてきめ細かい粒子を噴霧します。 加圧なしで液体が供給され、微細な粒子を噴霧します。 最小流量 10ml/分から最大流量 100ml/分の液体まで幅広く対応。 液体に圧力を加えないため、飛散や跳ね返りが非常に少なく、塗布液のムダが無くなり大掛かりな塗装ブースも不要 設備投資とランニングコストの削減を実現 ≪特長≫ ・液体を加圧せずに少ない電力で供給できるため、省エネ ・流量に関係なく均一霧化 ・全流量域での粒子径がほぼ一定 ・目詰まりしにくく作業上の安全性が高い ・粒子の自己速度が遅いため塗着効率が良い ・標準仕様の最大流量は100ml/分 ・操作周波数は20～130kHz（機種により異なります） ・ザウター粒子径は11.8～42μm （ソニア社） ※各種アクセサリーが豊富に揃ってます （ソノシス社） ※標準で空気搬送治具が付いてます

価格情報

お気軽にお問合せください

納期

~ 1ヶ月

※お気軽にお問合せください。

用途／実績例

◆用途例◆ ≪塗布≫ ・半導体部品への塗布 ・凝集剤、反凝集剤による血液採血管 ・レジン、フラックスのプリント配線基板 ・女性用生理用品、おむつ等の不織布 ・コンベア上の部品（潤滑剤塗布）医療製品たんぱく質、抗体、シリコン、（潤滑剤） ・製品への芳香、調味料等 ・薬剤塗布 ・燃料電池 ≪その他≫ ・板、ガラスへの塗装 ・加湿 ・表面消毒 ・無菌梱包用消毒スプレー ・接着溶剤 ・シリコン、半導体ウエハー、セラミック基板等への現像液スプレー ※一部超音波洗浄装置※ （（超音波洗浄装置）） ・フォトリソグラフィ工程の前処理 ・エッチング工程後の洗浄 ・CMP（化学機械研磨）後の洗浄 ・ダイボンディング工程の洗浄 ・ワイヤーボンディング工程の洗浄 ・光学レンズの洗浄

詳細情報

• 

  空気搬送治具を使う事で塗布された粒子を微風のエアーでスプレーパターンの変更を行う事が出来ます。 ≪参考≫ ・ホロコーン形状 ・フラット形状 ・ピンポイント形状 ※使用する空気搬送治具によりスプレーパターンは異なります。

• 

  Sonosys（ソノシス社）の「超音波洗浄装置」も取り扱っております。 詳細はカタログをダウンロードいただくか、お気軽にお問合せくださいませ。