PFAS規制対応と先端材料性能を両立し、材料開発の選択肢を広げる
「PFAS規制への対応を進めたい。しかし、性能は妥協したくない。」 そんな材料開発でお困りではありませんか？ 当社の電解フッ素化技術、有機合成技術および高純度化技術を活用したEF・ARシリーズは、PFAS系材料から非PFAS系材料まで幅広い選択肢を提供する機能性材料シリーズです。 EFシリーズは、PFAS系アニオンをラインアップし、先端フォトレジスト用光酸発生剤（PAG）や界面活性剤向け材料開発を支援します。 ARシリーズ（非PFAS）は、フォトレジスト用PAGや各種添加剤向けとして非PFAS化を支援します。 また、高純度化・低不純物化の要求をはじめ、お客様の処方や要求特性に応じた材料設計・カスタム提案にも対応しています。長年培った電解フッ素化技術、有機合成技術および高純度化技術を活用し、PFAS規制への対応と要求性能の両立を支援し、評価テーマの早期立上げや将来の調達リスク・規制リスク低減に貢献します。 フォトレジスト材料、PAG関連材料、各種機能性添加剤の開発をご検討の際は、 三菱マテリアル公式サイトをご確認いただき、お問い合わせフォームよりご相談ください。
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基本情報
〇 PFAS規制対応と要求性能の両立を支援 〇 PFAS系材料から非PFAS系材料まで幅広くラインアップ 〇 光酸発生剤（PAG）・各種添加剤向け非PFAS材料を展開（ARシリーズ） 〇 光酸発生剤（PAG）・界面活性剤向けPFAS系アニオン原料を展開（EFシリーズ） 〇 カスタム提案・受託開発に対応 〇 少量多品種生産に対応 〇 電解フッ素化技術・有機合成技術・高純度化技術を活用
価格情報
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納期
※数量によって納期は変動しますので、三菱マテリアル公式サイトからお問い合わせください。
用途／実績例
■半導体用添加剤 ・PFAS規制対応と要求性能の両立を支援 ・濡れ性、表面張力、界面制御などの機能付与に貢献 ・プロセス品質や歩留まり向上をサポート ■光酸発生剤（PAG）・フォトレジスト材料 ・PFAS系アニオンから非PFAS系材料まで幅広く提案 ・先端レジスト材料の開発を支援 ・PFAS規制リスクおよび調達リスク低減に貢献 ■機能性材料・各種添加剤 ・お客様の要求特性に応じた材料設計を支援 ・カスタム提案および少量多品種対応 ・高純度化ニーズを含む材料開発サポート
詳細情報
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●EFシリーズ ・先端フォトレジスト用光酸発生剤（PAG） ・界面活性剤
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●ARシリーズ ・PFAS規制に対応した構造設計（非PFAS・低懸念物質を指向） ・スルホン酸誘導体・スルホンイミドへ展開可能 ・用途に応じた分子設計が可能（置換基・カチオン設計など） ・半導体・電子材料向けの高機能アニオン材料を提供
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●導入によるメリット ・環境対応・開発効率・安定供給
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●用途例 ・半導体用添加剤 ・光酸発生剤（PAG）・フォトレジスト
企業情報
高機能製品事業部では、低アルファ線はんだ、フォトレジスト用反射防止材などの半導体関連部材をはじめ、精密実装材料の高機能・高品質製品をグローバル市場に向けて製造・販売しています。 また、環境技術分野においては、次世代社会の実現に向けて独創性と実用性を兼ね備えた製品開発を推進しています。自動車・建築分野向けの熱線カット塗料、電動車（xEV）の高性能化・安全性向上に貢献する温度センサ、社会インフラの信頼性向上を支える雷害対策部品などを展開しています。さらに、高耐熱性・低抵抗性・高熱伝導性を実現した実装材料は国内外で高い評価を獲得しており、今後の成長を牽引する製品群として期待されています。
