分子を基板表面に堆積させ、薄膜を形成させる技術！真空蒸着について解説！
蒸着のしくみについてご紹介いたします。 「真空蒸着」とは、1.0E-3Pa以下の真空中で金属や酸化物等を電子銃などで 加熱し蒸発させ、発生した分子を基板表面に堆積させ、薄膜を形成させる技術です。 河合光学株式会社は、真空蒸着技術で独自の研究開発を進めてきました。 お客様の要求に対し的確に対応するため、経営者及び従業員一同が一体となり 情報提供し合いながら、品質の安定した安全性の高い製品づくりに 取り組んでいます。 当社のホームページでは、“スパッタのしくみ”や“光学膜のしくみ”なども 解説しています。詳しくは下記の関連リンクよりご覧ください。 【真空蒸着概要】 ■1.0E-3Pa以下の真空中で金属や酸化物等を電子銃などで加熱し蒸発させる ■発生した分子を基板表面に堆積させ、薄膜を形成させる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【保有設備】 ■分光光度計 ■干渉計 ■マイクロスコープ ■レーザー顕微鏡 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
河合光学株式会社は、主に光学製品や蒸着部品を取り扱っている会社です。創立以来、一貫して真空蒸着技術の分野で独自の研究開発を推進。現在、光学の利用分野において重要な技術のひとつになっている真空蒸着による薄膜形成は、当社は優れたテクノロジーとエンジニアリングで、お客様にご満足していただける製品を提供しております。蒸着部品や中古蒸着装置部品の事なら、是非当社にご相談ください。
