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【PyroMini】小型高性能赤外線温度センサー

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【PyroMini】小型高性能赤外線温度センサー

最終更新日:2024年10月12日

テルモセラ・ジャパン株式会社
テルモセラ・ジャパン株式会社
  • 公式サイト

高機能タッチパネル変換器で簡単設定・データロギング・microSDカードにデータ保存 PM2.2は光沢金属表面の測定も可能

【概要】 視認性の良い高輝度タッチパネルディスプレーで、温度レンジ・放射率・サンプリングレート等のパラメータを直感的に操作・設定。 microSDカードで長期間のデータ保存・管理が可能です。 (*オプションでディスプレー無しの変換器もあります) φ18mm x 45mmの小型センサヘッドで、狭い場所での温度測定も可能、耐ノイズ性に優れたセンサ・ケーブルを採用しておりますので、ロボットアームなどの動く機器への組込みにも適します。 PM2.2モデルは、短波長2.2um波長を採用、高温(Max2000℃)、光沢性のある金属材料表面の測定などにも対応します。 【特徴】 ◎ ワイドレンジ:-20〜1000℃(PM), 100〜2000℃(PM2.2) ◎ 優れた基本性能:精度±1%, 再現性±0.5%、240msec高速応答 ◎ 測定波長領域:8〜14μm(PM), 2.0〜2.2μm(PM2.2) ◎ 小型Φ18mm x 45mm

    設備監理システム
PM_iPROS_550.jpg

【PyroMini】小型高性能赤外線温度センサー

PM_iPROS_550.jpg
PM_iPROS_550.jpg
  • 関連リンク - https://www.thermocera.com/products/irtemperature/…

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基本情報

【その他仕様】 ◉ PMモデル  視野角: ・PM-21:2:1 ・PM-151:15:1 ・PM-201:20:1 ・PM-301:30:1 ・PM-CF:φ5mm@100mm ・PM2.2-151:15:1 ・PM2.2-251:25:1 ・PM2.2-751:75:1 ・PM2.2-CF:φ7.5mm@500mm ◉ 温度範囲: ・PMモデル:-20℃〜1000℃ ・PM2.2モデル:100〜2000℃ ◉ 測定波長領域: ・PM:8-14um ・PM2.2:2.0〜2.2um ◉ 放射率: ・PM:0.2〜1.0 ・PM2.2:0.1〜1.0 ◉ 電源:24VDC ◉ センサ部寸法:Φ18mm(径) x 45mm(長さ) 【オプション】 ◉ 本体固定金具(固定式、アングル式) ◉ 水冷ジャケット ◉ エアパージジャケット ◉ デュアルレーザー照準器

価格帯

1万円 ~ 10万円

納期

~ 1ヶ月

用途/実績例

各種産業用機械、工場設備機器(食品・建築・製紙・印刷・ゴム・タイヤ・電力機器)

詳細情報

  • PM_iPROS_550.jpg

    PyroMini小型高性能赤外線温度センサー 高機能・高輝度タッチパネルスクリーン付変換器 microSDカードでデータ保存

  • FBS_iPROS_550.jpg

    FBS_固定金具 PyroMini USB用固定金具

  • ABL_iPROS_550px.jpg

    ABS_角度調整固定金具 PyroMini USB本体固定用

  • AP_iPROS_550px.jpg

    APS_エアパージキット PyroMini USB用エアパージジャケット 1/8BSP(P) フィッティング= G1/8 (1/8インチ平行めねじ) 0.5〜1.5L/min

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【PyroMini】小型高性能赤外線温度センサー

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【ExTemp】本質安全防爆型赤外線放射温度センサー

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実験炉・ヒーター_「PRODUCTS GUIDE_2024」

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薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2024」

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【nanoPVD-S10A】RF/DCマグネトロンスパッタリング装置

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【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

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ソフトエッチング装置【nanoETCH】<30W低出力制御によるダメージレスエッチング

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この製品に関するニュース(37)

薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2022」

★★テルモセラ・ジャパン_薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2022」★★

  • カタログニュース

半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装置、薄膜実験装置を紹介。 研究開発分野向け、各種薄膜実験装置・コンポーネントを紹介します。 【nano Benchtopシリーズ】 卓上型・ハイパフォーマンス!nano Benchtopシリーズ薄膜実験装置 コンパクトサイズに、高機能・ハイスペックな薄膜装置を収納 【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置】 多彩な装置構成、必要なコンポーネントを要求仕様に合わせて組み合わせ構成する「フレキシブル実験装置」 ● 掲載装置 - nanoPVD-S10A卓上型マグネトロンスパッタリング装置 - nanoPVD-T15A卓上型有機膜・金属膜蒸着装置 - nanoCVDグラフェン合成装置 - ANNEAL卓上型ウエハーアニール装置 - MiniLabシリーズフレキシブル薄膜実験装置 - MiniLab-GBグローブボックス式薄膜実験装置 - 他、コンポーネント類

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MiniLab-026

★☆★☆【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置★☆★☆

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MiniLab薄膜実験装置は、豊富なオプションから必要な成膜方法・材質に応じて都度最適なコンポーネント、制御モジュールを組み込むことにより、セミカスタムメイドで無駄を省いたコンパクトな装置を構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で搭載することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。 【MiniLab薄膜実験装置 構成モジュール】 ◎ 製作範囲 抵抗加熱蒸着(TE)、有機蒸着(LTE)、電子ビーム蒸着(EB)、スパッタリング(SP)、CVD、ドライエッチング 【スモールフットプリント・省スペース】 ・シングルラックタイプ(026):590(W) x 590(D)mm ・デュアルラックタイプ(060):1200(W) x 590(D)mm ・トリプルラックタイプ(125):1770(W) x 755(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または7”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、安全にも最大限配慮しております。チャンバー内部品調整、材料交換以外の全ての操作はPC/HMI画面で行います。

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ANNEALウエハーアニール装置の製品画像

ウエハーアニール装置【ANNEAL】Max1000℃ APC自動圧力制御 MFC x3系統 Φ4〜6inch基板対応

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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置(<5 × 10-7 mbar) [ANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用アニール装置です。 高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ) ・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2)

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【TCF-C500超高温小型実験炉】画像

☆★☆ 【TCF-C500 超高温小型実験炉】Max 2900℃ ☆★☆

  • 製品ニュース

コンパクト・省スペース・省エネルギー! 高性能 R&D用超高温実験炉 小片試料を最高2900℃まで加熱実験ができるR&D用超高温小型実験炉。 実験室での超高温加熱実験、新素材開発などのさまざまな焼成実験を行うことができます。 ◆主な特徴◆ ・省スペース ・ロータリーポンプ、コンプレッサー付属 ・インターロック:断水警報、過昇温、ガス圧力低下 ◆基本仕様◆ ・電源仕様:AC200V 75A NFB 50/60HZ(C-500) ・Max2900℃(カーボン炉)、2400℃(メタル炉)、 ・プログラム温度調節計、C熱電対 ◆オプション◆ ・記録計 ・ターボ分子ポンプ ・るつぼ ◆主なアプリケーション◆ ・新素材開発 ・燃料電池 ・その他

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【Endless possibility_thermal engineering...】 当社は半導体・電子機器基礎研究用真空薄膜装置、CVD基板加熱用超高温ヒーター、実験炉、温度計測機器などを販売しております。 いつの時代でも欠かす事のできない「熱」に対する尽きぬ需要、基礎技術開発分野での様々なご要求にお応えすべく、最新の機器を紹介し、日本の研究開発に貢献してまいりたいと考えます。

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