今回は、特性値を予測することで最適な実験条件の傾向を掴むことを目的としました。 <背景> 従来から現代にかけて、どの分野に関わらずより良い特性値をもつ材料を開発することは重要な業務であり、かつ重要な課題でもあります。 また、材料の特性値は様々な要因によって左右されてしまうため材料開発の効率化も求められています。 例えば、材料開発時に使用された素材や反応時間、そして温度、ヒステリシスのような要因によっても左右されるかもしれません。 この条件全てに対して実験計画法を導入し、実際に実験、測定をしたうえで最適な条件を発見することは理想ですが、 それはコスト面や時間的観点から現実的ではありません。 そこで、 いくつかの実験条件（例えば、説明変数X1、X2、X3、X4、、、）とそれぞれの特性値（例えば、目的変数Y1、Y2）を記した少量のデータセットを使用して機械学習を実施いたしました。 今回の事例では、機械学習モデルの作成、予測精度の改善まで実現する事が「簡単に機械学習を行うこと」できました。 ※詳しくはお問い合わせください。

「コンタミネーションに影響するダスト挙動」のシミュレーション解析 はじめ様々なシミュレーションに対応 【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※受託解析も行っておりますので、お気軽にお問い合わせ下さい。

【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

シャワーヘッド型CVD装置内のガス流れのシミュレーション解析 はじめ様々なシミュレーションに対応 【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※受託解析もしておりますので、お気軽にお問い合わせ下さい。

『Particle-PLUS』は、プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・ 製造に適したシミュレーションソフトウェアです。 軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで装置全体のシミュレーションを 行う必要なく、 高速に結果を得ることが可能。 2D(2次元)、3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます。 【特長】 ■低圧プラズマ解析が得意 ■軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで装置全体の 　シミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることが可能 ■流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションが得意 ■2D(2次元)、3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析可能 ■自社開発ソフトの強みとしてお客様の装置に合わせたカスタマイズも可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

株式会社ウェーブフロントが自社開発した、粒子法プラズマ解析ソフト ウェア「Particle-PLUS」は基板上に微小溝(マイクロトレンチ)が あるような場合でもマグネトロンスパッタリングの解析ができます。 「Particle-PLUS」は微小溝を含む基盤へのスパッタリング装置全体についてのマクロスケールと微小溝の部分に関するミクロスケールの両方を計算し、成膜プロセスをシミュレーションすることが可能です！ ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

株式会社ウェーブフロントが自社開発した、粒子法プラズマ解析ソフト ウェア『Particle-PLUS』は基盤とターゲットが平衡でないような装置の 場合の同時マグネトロンスパッタリングでも解析が可能です。 カットセル作成機能により正確な形状と法線方向を考慮しながら、 直交格子の特長である高精度な電場計算を行うことができます。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。