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  6. 微細加工・研究開発・産業用高出力極短パルスレーザ PHAROS

微細加工・研究開発・産業用高出力極短パルスレーザ PHAROS

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Light Conversion社製 PHAROS

最終更新日:2024年07月08日

フォトテクニカ株式会社
フォトテクニカ株式会社
  • 公式サイト

フェムト秒レーザの高出力化と高エネルギー化を同時に実現し、高繰返し動作、出射方向安定性により高品位、高精度な微細加工が高速で可能

優れたビーム品質、出射方向安定度と低ランニングコストにより微細加工、マイクロマシンニングに最適。 パルス幅・出力可変機能やパルス・オン・デマンド機能を搭載し、レーザ照射条件の変更が容易に行なえるので、アプリケーション開発や機器組込みに最適。またパルス繰返し周波数の高さ、高平均出力を活かし、S/N の向上と測定時間の大幅短縮など、理化学・研究開発分野に貢献できる。 PHAROS(高平均出力20W@1MHz)とORPHEUS(OPA)と波長拡張ユニットを組み合わせて、最大16μmまで波長可変が可能で分光分析等に最適。 また高出力・高エネルギータイプ(20W, 4mJ/pulse@3kHz) 、極短パルス幅タイプ(>100fs)も加わり、各種加工、アプリケーション開発や機器組み込みに最適。 レーザダイオード直接励起により、大幅な小型化と低消費電力化を実現した高出力極短パルス(フェムト秒)レーザ。 パルス幅・出力可変機能や、パルス・オン・デマンド機能を搭載し、 レーザ照射条件の変更が容易に行なえる。

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PHAROS-PH2-Femtosecond-Laser-_-G54_9582-768x480

微細加工・研究開発・産業用高出力極短パルスレーザ PHAROS

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  • 関連リンク - https://www.phototechnica.co.jp/products/laser-osc…

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基本情報

高出力と高パルス高繰返しにより、高品位・高精度なナノ加工が高速で可能。専用に開発されたOPA(ORPHEUS) と組み合わせて波長チューニング可能な、高繰り返し、高エネルギー、高ビーム品質の出力が得られる。 特長 ●中心波長  1030±10nm ●最大平均出力 20W (★PH2-4mJモデル : 20W,>4mJ,<450fs )           (★PH2-UPモデル:20W, <100fs, 0.4mJ) ●パルス幅 100fs~10ps可変 (20ps 可能) ●パルス繰返し周波数可変 シングルショット~1MHz ●最大パルスエネルギー 4mJ ●高品位なビーム品質 TEM00: M2<1.2 ●ワンボックスシールドパッケージ ●パルスピッカー内蔵によりパルスーオンーデマンド操作が可能 ●堅牢で産業用グレードのメカニカルデザイン ●高度なサーマル安定化システム ●短いウォームアップタイム ●低ランニングコスト ●レーザヘッドに直付け可能な高調波オプション(自動切替・ 515nm,343nm,257nm,206nm)

価格情報

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用途/実績例

特長 ●中心波長  1030±10nm ●最大平均出力 20W (★PH2-4mJモデル : 20W,>4mJ,<450fs )           (★PH2-UPモデル:20W, <100fs, 0.4mJ) ●パルス幅 100fs~10ps可変 (20ps 可能) ●パルス繰返し周波数可変 シングルショット~1MHz ●最大パルスエネルギー 4mJ ●高品位なビーム品質 TEM00: M2<1.2 ●ワンボックスシールドパッケージ ●パルスピッカー内蔵によりパルスーオンーデマンド操作が可能 ●堅牢で産業用グレードのメカニカルデザイン ●高度なサーマル安定化システム ●短いウォームアップタイム ●低ランニングコスト ●レーザヘッドに直付け可能な高調波オプション(自動切替・ 515nm,343nm,257nm,206nm)

詳細情報

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    ★BiBurst (burst-in-burst 動作による可変GHz/MHz バーストの可能性) オプション 高エネルギーフェムト秒レーザ PHAROSにフレキシブルなBiBurst機能を追加することにより、新しいハイテクな製造産業(家庭電化製品、ICチップ製造、ステント切断、表面機能化、次世代ディスプレイ工場、量子コンピュータ等)において新たな生産の可能性を拓ける。 材料加工の拡張性: ◆脆い材料の孔加工・切断  ◆深堀加工  ◆材料選別アブレーション ◆透明材料内部加工

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当社はレーザ発振器及び光学機器・部品の輸入販売からスタートし、世界の革新的で独創的な電子光学機器の輸入販売と高度な技術サービスの提供を通して発展してまいりました。 主要商品としては、半導体レーザからナノ・ピコ・フェムト秒レーザまで各種のレーザ光源を取り扱い、それらを調整・制御する各種機器及び計測機器を取り揃えております。光分光・分析の分野では高性能マルチスペクトルファイバー入射分光器とその応用計測システム(カラー・発光・吸収・ラマン分光・蛍光・プラズマ・LIBS等)と、サーマルイメージングIRカメラを提供しています。さらに薄膜技術の発展に対応して、薄膜密着強度試験機や光学干渉式膜厚モニタなど、薄膜計測機器を取扱っております。 今後は、ユーザーの要求に迅速に応えるべく、各種アプリケーション及びアフターサービスを充実させてまいります。今後も光とナノテクノロジーの分野にしっかりとした軸足を置き、市場の動向に対応して、皆様のお役に立つフロンティア商社として、更なる発展を目指してまいります。

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