ウシオの光で出来ること『不純物拡散』
統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例（不純物拡散）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：クセノンフラッシュランプ・ハロゲンヒータランプ ○半導体工程において、ソースドレインにインプラントを行い その後、アニール工程によってドーピングした不純物を活性化 ○クセノンフラッシュランプの特性を活かし ミリ秒単位という短時間で今までの活性層の深さに比較して 極めて浅い部分（nmオーダー）を高温アニールし 不純物の拡散を防ぐことが可能 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。
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統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例（不純物拡散）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：クセノンフラッシュランプ・ハロゲンヒータランプ ○半導体工程において、ソースドレインにインプラントを行い その後、アニール工程によってドーピングした不純物を活性化 ○クセノンフラッシュランプの特性を活かし ミリ秒単位という短時間で今までの活性層の深さに比較して 極めて浅い部分（nmオーダー）を高温アニールし 不純物の拡散を防ぐことが可能 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。
価格情報
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納期
用途／実績例
【用途】 ○シリコンウェハを注入した不純物の活性化
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企業情報
加熱、硬化、洗浄、改質、表面処理、接着、露光、照明、治療、計測、測定・・・「光」のことなら、ウシオにお任せください。光源からユニット、光の装置まで、独自の光技術で、お客さまの目的や用途に応じた最適な「光」をご提案いたします（共同実験、共同研究、デモ機・実験機のお貸し出しも承ります）。
