パワーデバイス、LED向けに好適なラジカル源です
当社では、MBEの成膜速度を向上させるため、従来のラジカル源より、 高密度のNラジカルを供給する「高密度ラジカル源装置」を取り扱っております。 不純物が発生しないように設計され、GaNの高品質結晶成長を 維持したまま、従来よりも高速成長を実現。Oラジカルも 生成可能ですので、酸化物への展開も可能です。 また、ラジカルモニターや、小型VUV分光器、CCP型プラズマエッチング 装置など様々な製品を取り揃えております。 【特長】 ■イオン除去、電子除去機構付 ■H、N、O高密度ラジカル発生 ■ICF114フランジ取付 ■ガス供給外部制御機能付 ■プロセスチャンバー圧力調整用オリフィス付 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
【構成】 ■原子状ラジカル発生源 ■ヘッド一体型マッチングボックス ■ガス供給装置 ■フィードバック制御(オプション) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
価格帯
納期
用途／実績例
※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
カタログ（1）
カタログをまとめてダウンロード
企業情報
当社は、プラズマ技術を用いた装置を主に取り扱う企業です。 特に大気圧プラズマについては、金属や樹脂等の表面処理や改質、 農業の成長促進作用、医療器具の滅菌・殺菌にも使われている技術です。 この技術を駆使して様々な製品を他社様と共同して作っていき、 少しでも社会貢献に携わりたいと思っております。 ご要望の際は、お気軽にお問い合わせください。