・ステンレス鉢採用により、熱応答性が高くなり、急速加熱により処理が可能 ・ステンレスにジルコニアを溶射して磁器鉢同等の処理性能
【特長】 ・石川式撹拌擂潰機の基本性能はそのままで、加熱機能を有する。 ・卓上型で、かつステンレス筐体を採用しているため、実験室やクリーンルームでの使用に最適。 ・ステンレス鉢を採用することにより、均一、かつ短時間で熱が伝わる機能を有する。 ・160℃までの加熱を行いながら、撹拌擂潰処理が可能。 ・透明なアクリルカバーを有し、安全性や擂潰物の飛散防止に配慮。 ・インバーターを標準装備し、杵の回転数を制御可能。 【好適使用例】 ・スラリー、ペーストを分散、混練しながら濃縮、乾燥処理が同時にできるので、材料を固まらせることなく細かく粉砕。 ・溶剤を加えたスラリー、ペースト等の分散、混練時の濃縮作業で杵の撹拌効果と杵先の粉砕作業により均一な分散、混練処理を実現。 ・撹拌機、分散機、混練機、粉砕機等専用機では実現出来ないメカノケミカル、メカニカルアロイを用いて、電子材料や二次電池材料の合成可能。 ・石川式攪拌擂潰機（カクハンライカイ機）は「攪拌」「分散」「すりつぶし」「混合」「練り合わせ」「粉砕」「破砕」を同時に行う事が出来る機械です。 独自の構造で、粒径均一性、混合均一性を実現します
この製品へのお問い合わせ
基本情報
【諸元】 （装置） 高さ：430mm 幅：300mm 奥行：410mm （鉢） 内径：152mm 深さ：300mm 鉢材料：ステンレス オプションとしてステンレスの表面にジルコニアを溶射したものも準備。 ジルコニアを溶射することにより、磁器鉢と同等の擂潰（すりつぶし）性能となる。 （加熱性能） 160℃まで加熱可能 ラバーヒーターでアルミブロックで加熱して、そのアルミブロックがステンレス鉢を加熱する機構。 （擂潰性能） 杵は磁器、ステンレスどちらも取り付け可能。 杵は1本で中心部まで十分に擂り潰すことが出来る。 独自技術で、杵は公転、自転をしながら、軌跡はエピサイクロイド曲線を描く。これにより、中心部はより密に擂り潰しができる設計となっている。 （その他機能） ・非常停止ボタン付 ・擂潰時間、擂潰スピードを設定可能
価格情報
お問い合わせください
納期
用途／実績例
【好適使用事例】 ・スラリー、ペースト、コロイドを分散、混練しながら濃縮、乾燥処理が同時にできるので、材料を固まらせることなく細かく粉砕。 ・溶剤を加えたスラリー、ペースト等の分散、混練時の濃縮作業で杵の撹拌効果と杵先の粉砕作業により均一な分散、混練処理を実現。 ・下記メカニカルアロイングを用いて、電子材料や二次電池材料の合成可能。 ・石川式攪拌擂潰機（カクハンライカイ機）は「攪拌」「分散」「すりつぶし」「混合」「練り合わせ」「粉砕」「破砕」を同時に行う事が出来る機械です。 これにより、撹拌機、分散機、混練機、粉砕機等専用機では実現出来ないメカノケミカル、メカニカルアロイの様な処理効果が認められます。 独自の構造で、粒径均一性、混合均一性を実現します
企業情報
弊社は、攪拌擂潰（かくはんらいかい）機の専門メーカーです。石川式攪拌擂潰機の特徴は、「攪拌」「（擂潰）擂り潰し」「混合」「練り合わせ」を一つの装置で同時に行うことができ、それらの相乗効果が得られることです。撹拌擂潰とは粉砕処理（摩砕、破砕、メカニカルアロイング、メカノケミカル反応）と撹拌処理を同時に行うという意味になります。独自設計により理想的擂潰軌跡を実現し、均一な撹拌擂潰処理ができるユニークな機械です。 １．撹拌擂潰（基本機能） ★合金、水和物の脱水、人工骨、人工歯、ソルトミリング（有機顔料のナノ分散）、化薬、セラミック粉砕、砥石、金属ペースト、CNT接着剤、軟膏、蕎麦打ち、粒子表面処理などへの応用。 以下の付加機能追加で新しい機能を実現 ２．温度： ★半導体ヒートシンク、３Dプリンター用樹脂の高温混練 ３．温度＆真空： ★スラリー用エバポレーター ★実験室レベルでのスプレイドライヤーの代用 ★凍結乾燥（凍結乾燥機能だけでなく、粉体化も一気に可能） ４．隔離密閉： ★株式会社石川工場の卓上型機は、アクリルカバーで、攪拌擂潰中の粉塵の飛散を防ぎます。