ナノメートル精度での薄膜形成を可能にする高精密ディップコーター
++++++++++++++++++++ 現在、HPで動画紹介中です。 ++++++++++++++++++++ ナノディップコーターは、一ナノメートル毎秒からの極低速制御を可能にした高精度ディップコーターです。Z軸百五十ミリメートル、X軸百五十ミリメートルのストロークを備え、精密な位置決めと均一なコーティングを実現します。最小一ナノメートル単位での制御が可能なため、ナノ薄膜や超精密試料の作製に適しています。タッチパネル操作で条件を直感的に設定でき、研究者や技術者にとって使いやすい設計です。材料研究や先端デバイス開発の場で、再現性の高い膜形成を支援します。 ※詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
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基本情報
【主仕様】 1.ストローク: Z軸:150mm、X軸:150mm 2.最小速度: 1nm/sec 3.最大速度: 60mm/sec 4.操作方法: タッチパネル 5.画面文字: 日本語/英語 6.処理速度変更ポイント数: 16ポイント 7.停止位置指定ポイント数: 16ポイント 8.停止時間指定ポイント数: 16ポイント 9.連続運転モード: 有 10.マニュアル運転モード: 有 11.記憶プログラム数: 8プログラム 12.モニタ機能:現在速度: 有 13.モニタ機能:現在位置: 有 14.モニタ機能:動作残時間: 有 15.繰返運転機能: 有 16.標準クリップ: PP材 17.ユーティリティー: AC100V、300VA 18.可搬重量: 500g 19.最大処理サイズ: H:100mm 20.リニア運転モード: 無 21.装置サイズ:突起含まず(重量): W:442×D:250×H:451mm 22.コントロールBOXサイズ:突起含まず(重量):W:300×D:285×H:163 (7kg)
価格帯
100万円 ~ 500万円
納期
~ 1ヶ月
用途/実績例
本製品は、ナノテクノロジー研究や高機能デバイス開発に広く活用されています。具体例として、半導体ナノ薄膜形成、マイクロ流路デバイスの表面処理、高感度センサー用薄膜作製、光学デバイス研究などがあります。研究用途では、大学や研究機関における新材料探索、ナノスケール表面改質実験などに導入されています。工場用途としては、精密部材の試作工程や評価ラインで利用され、ナノレベルでの精度管理を必要とする分野で高い実績を誇ります。
詳細情報
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ナノディップコーターは、一ナノメートル毎秒からの極低速制御を可能にした高精度ディップコーターです。Z軸百五十ミリメートル、X軸百五十ミリメートルのストロークを備え、精密な位置決めと均一なコーティングを実現します。最小一ナノメートル単位での制御が可能なため、ナノ薄膜や超精密試料の作製に適しています。タッチパネル操作で条件を直感的に設定でき、研究者や技術者にとって使いやすい設計です。材料研究や先端デバイス開発の場で、再現性の高い膜形成を支援します。
ラインアップ(15)
型番 | 概要 |
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DT-2412-N1-EP | 爆発危険環境でも安心、安全性と精密制御を両立した防爆型(安全増し)ディップコーター |
ND-0407-N1-CE | ナノメートル精度での薄膜形成を可能にする高精密ディップコーター |
MD-0408-N1-CE | 微細構造試料や小型基板の精密コーティングに最適な卓上型装置 |
DT-0303-N1-CE | 省スペースで高精度、小型試料に最適な卓上ディップコーター |
LD-2404-N1 | 直線と回転を融合、多様なコーティングを可能にする高機能モデル |
LD-1304-S2 | 安定した昇降制御で再現性の高い膜形成を実現するリニアモデル |
OD-2304-N1-CE | 交互ディップで多層膜形成を効率化する先進ディップコーター |
DT-0502-N1 | 中型試料の研究・試作に最適な汎用性の高い卓上コーター |
DT-0001-N1 | 持ち運び自在、研究現場を選ばず使える軽量ポータブルコーター |
DT-1508-N1 | 1mの大型試料も均一にコーティング可能な高性能装置 |
MD-1405-S1 | 面精度を極限まで追求、微細材料研究に最適な高精度装置 |
DT-1609-4D1 | 4軸制御で複雑形状や多方向コーティングを自在に実現 |
DT-1704 | 大面積基板に対応、産業応用を見据えた高性能ディップコーター |
DT-1303-S1 | 長尺材料やロッド形状試料に対応する専用ディップコーター |
DT-1911 | 最大900mm対応、大型基板の研究から試作まで幅広く対応 |
カタログ(71)
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