NF3最大流量8slm、独自のPEOプラズマブロック設計によりプロセス性能と寿命を向上！
「Paragon（R）」は、量産実績のあるMKS低磁場トロイダルプラズマ源の特性を基に、次世代ナノプロセス開発と製造に、より適したデータ転送と制御性を実現しました。 CVDおよびALD／ALEプロセスチャンバークリーニングに対応し、8slmのNFガス流量および最大10Torrの圧力条件においても高い分析効率（＞98％）が得られます。 【特長】 ■NF最大流量8slm、コンパクトな設計でクリーニング時間短縮 ■PEOコーティングを採用した独自のプラズマブロック設計により、プロセス性能と寿命を向上 ■RoHS適合、CE、S2、F47 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【仕様】 ■プロセスガス供給&排気 ガス供給接続KF40：排気接続KF50 ■接ガス部材料 PEOコーティング、6061-T6アルミニウム、Chemraz（R）、アルミナ ■制御インターフェース EtherCATおよびアナログI／O Dサブ 25ピン ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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納期
用途／実績例
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企業情報
弊社は、半導体デバイス、FPD、OLED、太陽電池、データストレージ、コーティングなどの薄膜アプリケーション、または医療機器、エネルギー、環境モニター、バイオ医薬などの産業アプリケーションなど、成長産業における製造プロセスの最新技術を提供するグローバルリーディングカンパニーです。 世界各地のサービスセンタよりワールドワイドなサポートを行っています。
