安定した昇降制御で再現性の高い膜形成を実現するリニアモデル
ワークを引上げる制御に全く新しい制御方法を使用することにより、速度をリニアに変更させ、膜厚を滑らかに簡易に変化させてディップコート(ディップコーティング)できる画期的なディップコーターです。 速度の可変域は0.1mm/secから200mm/secと超ワイド。もちろん、従来機種に搭載されている機能も、ワンタッチで切換えが可能。 リニアディップコーターは、ストローク300mm、最小速度0.1mm/secの高精度制御を持つ標準型装置です。試料を安定した速度で直線的に昇降させることで、膜厚の均一性と再現性を確保します。構造がシンプルで操作性にも優れており、研究室から試作工程まで幅広く導入可能なモデルです。 --------------------------------------------- 現在、HPで動画紹介中です。 ---------------------------------------------
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基本情報
【主仕様】 1.ストローク 300mm 2.最小速度0.1mm/sec 3.最大速度200mm/sec 4.操作方法タッチパネル 5.画面文字日本語/英語 6.処理速度変更ポイント数16ポイント 7.停止位置指定ポイント数16ポイント 8.停止時間指定ポイント数16ポイント 9.連続運転モード有 10.マニュアル運転モード有 11.記憶プログラム数8プログラム 12.モニタ機能:現在速度有 13.モニタ機能:現在位置有 14.モニタ機能:動作残時間有 15.繰返運転機能無 16.標準クリップSUS材 17.ユーティリティーAC100V、400VA 18.可搬重量1kg 19.最大処理サイズH:300mm 20.リニア運転モード有 21.装置サイズ:突起含まず(重量)W:270 D:315 H:1066(16kg) 22.コントロールBOXサイズ:突起含まず(重量)W:303 D:390 H:267(11kg)
価格帯
100万円 ~ 500万円
納期
用途/実績例
レンズ、ガラス、ウエハー、基板等の平面に、なだらかな膜厚変化をもたらします。 光学薄膜形成、機能性材料研究、電子部材試作などに幅広く使用されています。特に大学・企業研究所での基礎研究や、新規材料開発における再現性試験に多く導入されています。
ラインアップ(15)
型番 | 概要 |
---|---|
LD-2404-N1 | 直線と回転を融合、多様なコーティングを可能にする高機能モデル |
ND-0407-N1-CE | ナノメートル精度での薄膜形成を可能にする高精密ディップコーター |
DT-2412-N1-EP | 防爆認証部品搭載で現場の安心を確保。 |
MD-0408-N1-CE | 微細構造試料や小型基板の精密コーティングに最適な卓上型装置 |
DT-0303-N1-CE | 省スペースで高精度、小型試料に最適な卓上ディップコーター |
OD-2304-N1-CE | 交互ディップで多層膜形成を効率化する先進ディップコーター |
LD-1304-S2 | 安定した昇降制御で再現性の高い膜形成を実現するリニアモデル |
DT-0502-N1 | 中型試料の研究・試作に最適な汎用性の高い卓上コーター |
DT-0001-N1 | 持ち運び自在、研究現場を選ばず使える軽量ポータブルコーター |
DT-1508-N1 | 1m超の大型試料も均一にコーティング可能な高性能装置 |
MD-1405-S1 | 面精度を極限まで追求、微細材料研究に最適な高精度装置 |
DT-1609-4D1 | 4軸制御で複雑形状や多方向コーティングを自在に実現 |
DT-1704 | 大面積基板に対応、産業応用を見据えた高性能ディップコーター |
DT-1303-S1 | 長尺材料やロッド形状試料に対応する専用ディップコーター |
DT-1911 | 最大900mm対応、大型基板の研究から試作まで幅広く対応 |
カタログ(71)
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