パーティクル除去・ベーパー洗浄 - 浸漬洗浄＋ベーパー洗浄により高い洗浄性と乾燥性を実現
フッ素系溶剤を用いて微細パーティクルを除去します。第1槽で浸漬洗浄、第2槽でベーパー洗浄を行うことにより、高い洗浄性と乾燥性を実現します。システムはスケールアップが可能です。
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基本情報
洗浄槽に多孔板を設置して洗浄剤を循環させる事により、洗浄槽内の清浄度を高めます。パーティクルの比重や水流に左右されずに、効率よく浄化する事が可能です。
価格帯
納期
用途／実績例
アプリケーション例 水溶性フラックス除去、薄膜フィルム基板、プリント基板、フレキ基板、実装基板、電子部品、リードフレーム、精密部品、イメージセンサー、半導体パッケージ、パワーモジュール、セラミックパッケージ、光学レンズ、光学部品、液晶ガラス、フォトマスク、プラスチックレンズ、接合レンズ、プリズム、眼鏡レンズ、樹脂成型品、電子機器部品、自動車部品、カメラ部品、金属精密加工部品、精密ベアリングボール、切削加工部品、メッキ部品、ダイカスト部品、精密プレス加工部品、軽合金ダイカスト部品、コピードラム
詳細情報
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1 サクションフィルターを通過した洗浄剤は、フィルタリング後に槽内に供給されます。 2 沈降するパーティクルは、槽下部から排出されます。 3 浮遊するパーティクルは、多孔板から中間チャンバーへ排出されます。 4 浮上するパーティクルは、オーバーフローによって予備槽へ排出されます。 ※排出される1～4のバランスは、バルブA～Cにより調節する事が可能です。
カタログ（4）
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企業情報
プリスは、複数の固有技術を持つプロセスエンジニアリング企業です。粉体技術、バイオテクノロジーおよび精密洗浄技術の三つの技術ポートフォリオを保有し、積み重ねた先進技術をもとに、ユニークな製品・ソリューションを提供しています。高効率でエネルギー消費に配慮した、優れた製造プロセスを創造し、製造業の持続可能な発展を支えています。また、グローバルに展開するユーザー、サプライヤーおよび大学・研究機関との強固なパートナーシップにより、幅広い産業における新素材の開発や製品の品質向上にも貢献しています。
