ローカイド溶射こそセラミック溶射の基幹技術であり大きな牽引力
ローカイド溶射は、溶融熱源に酸素－アセチレン炎を使用し、棒状に焼結加工された溶射材料を利用する方式です。溶融温度は、約3000℃。完全に溶融された粒子だけを、エアジェット流で加速・噴射します。装置の自由度が高く、複雑な形状の母材にピンスポットで溶射できる利点があります。詳しくはカタログをダウンロードしてください。
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基本情報
【特長】 ○溶融熱源に酸素－アセチレン炎を使用し、棒状に焼結加工された溶射材料を利用する方式 ○完全に溶融されたセラミック粒子だけが噴射される ○粒子間結合力の高い皮膜が得られる ○溶融温度がプラズマ溶射法よりも低温 ○母材への熱影響がより少なくて済む ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードしてください。
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企業情報
セラミック溶射の基幹技術ローカイドプロセスを日本で最初に導入しロケット開発を支えて以来半世紀、NCIは常にローカイドプロセスを追求しセラミック溶射をリードし進化させてきました。 ローカイドプロセスのノウハウがあればこそプラズマ・ハイブリッド・高速フレーム・表面パターンなど突出した機能と品質の提供が可能です。 NCIの溶射技術は先端技術分野でも幅広く利用されておりNCIならではの質の高いソリューションを提供しています。
