開発・試作向けの装置や高い生産性と洗浄性を兼ねた「バッチ式」や「枚葉式」等の全自動洗浄装置まで貴社のニーズにお応えいたします。
半導体・２次半導体の部材や部品・金属部品等、弊社の技術ノウハウとテクノロジーを生かした洗浄方法（超音波、ブラシ、高圧ジェット、薬液、UV等）や乾燥方法をご提案いたします。 ※ 微細なラインやホールの中の汚れが落ちにくく、乾燥もしづらい！！ ※ ウォーターマークが出てしまう！！ ※ 薬液を使用した洗浄方法が分らない！！ Etc
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基本情報
【特徴】 ○シリコンウェハーや硝子基板の表裏面のほこり等を短時間で、洗浄から乾燥 ○専用回転テーブルに加工対象物（ワーク）をセット ○回転させながら（MAX2000rpm）、ワークの表裏同時洗浄・乾燥 ●詳しくはお問い合わせください。
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企業情報
急激な情報化社会の到来とともに、社会のニーズはより多様化し、あらゆる産業で、より高機能・高品質の製品が求められています。 こうした中、私どもテクノライズは設立以来のモットーである「基準を超えた精度の提供」という高い目標を忘れることなく、さまざまなデバイスにおいて数々の技術開発を行い、確かな信頼のもとで製品を提供してまいりました。 おかげさまで各分野のお客様より高い評価をいただき、ラッピング・ポリッシング関連装置、半導体関連機器、平面・球面研磨加工機器、各種治工具、さらにはシリコンウエーハ、環境製品、光通信関連機器に至るまで、さまざまな製品に対して大きな信頼をいただいております。 ２１世紀を迎えた現在、超高度技術への期待はますます高まり、同時に環境問題への対応、あらゆるコストの削減、事業の効率化といった、これからの企業に課せられる課題はなお多くあります。 テクノライズは、これからもより良い製品のご提案を行い、社会へのさまざまな貢献をしてまいりたいと考えています。
