多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-125】Φ8"対応 SiCコーティング 1000℃ヒーターステージ 搭載!コンパクトサイズ!

多元マルチスパッタリング装置(Φ8inch基板対応)
・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ
・RF500W, DC850W両電源を3元カソード(Source1, 2, 3)へ自在に配置変更
・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード(4)で使用
・基板加熱ステージ Max800℃(SiCコーティングヒーターでMax1000℃も可能)
・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング
・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W
・LLチャンバー <30W 低出力制御ソフトエッチング
・独自の"Soft-Ething"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減
・タッチパネル又はWindows PC操作:操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。
・装置設置寸法:1,960(W) x 1,100(D) x 1,700(H)mm
・マルチチャンバー式も製作可能です。
●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。


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◉スパッタ、蒸着(抵抗加熱・有機・EB)、アニール、プラズマエッチング等に対応 ◉
モジュラー式 フレキシブルにコンポーネントの組合せを構成(ソース複合型、マルチチャンバーも可能)
◉コンパクト、省スペース設計(幅1,200 x 奥行560mm)
◉優れた操作性:直感的インターフェイス、操作が分散せず全てをタッチパネルで一元管理できます。