2025年、乙巳（きのとみ）の年が皆様にとって希望に満ちた素晴らしい一年となりますよう、心よりお祈り申し上げます。 今年の干支である「巳」は、変化や再生を象徴する生き物として知られています。脱皮を繰り返し成長する姿は、私たちの挑戦と進化の精神を映し出すものです。また、乙（きのと）は木が伸びていく若々しいエネルギーを表し、未来への新たなスタートを感じさせる年となるでしょう。このような節目の年に、私たちも自らの技術と知識を研ぎ澄ませ、新たな価値を創出する覚悟を新たにしております。 光学薄膜の分野では、微細な構造と正確な設計が、光を操る驚異的な可能性を生み出します。この技術のように、私たちも積み重ねた経験と革新を活かし、お客様により高い価値を提供してまいります。特に近年では、次世代の通信、ディスプレイ、医療、そして宇宙分野において光学薄膜の重要性が急速に高まっております。2025年は、これらの先端分野において皆様のご期待に応える技術革新を進める年としたいと考えております。 これからも、信頼にお応えする品質とサービスを提供するとともに、皆様と共に成長し、未来を切り拓いていく所存です。 安達新産業株式会社

微細加工や電子デバイス製造において、パターン転写の精度と効率を高めるために、メタルマスクとフォトマスクが広く利用されています。両者は異なる特性と用途を持ち、各産業で重要な役割を果たしています。今回は、メタルマスクとフォトマスクの基本的な違いとなる箇所について解説します。 1. 素材と構造 2. 使用方法とプロセス 3. 適用分野 4. 精度とスケール 5. コストと耐久性 まとめ 詳細は当社HPをご覧ください。

フォトマスクは、主に半導体やマイクロエレクトロニクスの製造で使用される、高精度なパターン形成用のマスクです。基板に光を通してパターンを転写するためのテンプレートとして使用され、特にリソグラフィー工程で不可欠な役割を果たします。フォトマスクについて、特徴や用途、製造プロセスについて説明します。 1.フォトマスクの基本構造 2.フォトマスクの用途 3.フォトマスクの製造プロセス 4.フォトマスクのメリットと課題 続きは当社hpからご覧ください