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窒素パージで酸化防止、安定した膜形成を実現するリニア型
本装置は、40mm角の塗布物を10枚同時にディップする装置です。コート液表層部及び装置内にN2もしくはO2のパージ機構を有し、速度制御方法は通常ディップとリニアそれぞれのモードり切替可能です。またレシピ数は合計100、クリーンルーム、安全増し防爆対応装置となります。 ストローク100mm、W40×H40mm t4.0対応。窒素パージ機構を備えたリニアディップコーターで、酸化や湿度の影響を受けやすい試料を安定して処理可能。研究から試作まで幅広く活用されます。
安定した昇降制御で再現性の高い膜形成を実現するリニアモデル
リニアディップコーターは、ストローク３００ミリメートル、最小速度0.1ミリメートル毎秒の高精度制御を持つ標準型装置です。試料を安定した速度で直線的に昇降させることで、膜厚の均一性と再現性を確保します。構造がシンプルで操作性にも優れており、研究室から試作工程まで幅広く導入可能なモデルです。 --------------------------------------------- 現在、HPで動画紹介中です。 ---------------------------------------------
安定した昇降制御で再現性の高い膜形成を実現するリニアモデル
ワークを引上げる制御に全く新しい制御方法を使用することにより、速度をリニアに変更させ、膜厚を滑らかに簡易に変化させてディップコート(ディップコーティング)できる画期的なディップコーターです。 速度の可変域は0.1mm/secから200mm/secと超ワイド。もちろん、従来機種に搭載されている機能も、ワンタッチで切換えが可能。 リニアディップコーターは、ストローク300mm、最小速度0.1mm/secの高精度制御を持つ標準型装置です。試料を安定した速度で直線的に昇降させることで、膜厚の均一性と再現性を確保します。構造がシンプルで操作性にも優れており、研究室から試作工程まで幅広く導入可能なモデルです。 --------------------------------------------- 現在、HPで動画紹介中です。 ---------------------------------------------
直線と回転を融合、多様なコーティングを可能にする高機能モデル
リニアディップコーター自動回転機構付きは、昇降軸〇・〇〇一ミリメートル毎秒、回転軸〇・〇〇一度毎秒の超精密制御を実現する装置です。ストローク三百ミリメートルに加え、自動回転機構を搭載し、試料の多面コーティングや複雑形状試料への対応が可能です。高度な制御性能により、均一性と再現性を両立し、先端材料研究や試作工程で高い性能を発揮します。 ※レンタル装置もご用意しております。お気軽にご相談お待ちしております。
