空気調和設備の製品一覧
- 分類：空気調和設備
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【超時短・スリーブパイル】コンクリ使わず基礎工事が即完了！養生いらずでカーブミラー・フェンスを即設置！
- フェンス・目隠し・仕切り
【暑さ対策の技術資料を無料プレゼント中！】空調を諦めていた工場や倉庫も涼しく快適に！＜低コスト＞大風量の涼風で酷暑を改善！
- 空気調和設備
【導入事例付き資料を無料ダウンロード】産業用エアコンに比べてランニングコスト1/4。食品業界の厳しい衛生管理にも適応！
- 空気調和設備
適切な換気で “密閉空間を避ける” ～新鮮な外気導入と適切な給気～ 省エネ型 低露点外気処理空調機「エコチェンジャー ECU」
- 空気調和設備
【プラスチック成型 / 電子業界の方必見！】乾燥の季節！静電気対策はお済みですか？従来機の問題点を解決した多機能加湿機です。
- 空気調和設備
エアー源の切り替えで最大80％の電力削減が可能なエアーノズル、省エネ冷房を実現するミスト発生装置！
- 空気調和設備
新開発！微小流量ミストノズル＆高性能ファンで室内を高効率加湿！低消費電力ファンと小型ポンプを採用した省エネ設計の加湿装置。
- 空気調和設備
サインデザインやIoTなど！さまざまな課題の解決に向けた製品を取り扱っております
- 空気調和設備
- パーティション
- IoT
『エコサラ』は、ゼロエネルギーの予冷と再熱で省エネを実現。サラっとした空気を室内に供給することで湿度を処理します。
- 空気調和設備
【10月9日(水)～10月11日(金)】『フードファクトリー(FF)2024』に出展いたします
三建設備工業株式会社は、フードファクトリー(FF)2023－食品工場改善設備・エンジニアリング展－ に出展いたします。 食品工場の設備改善・エンジニアリングに関わる設備・機器が集う専門展示会で、 当社は「ゼロエネ予冷・再熱」の除湿給気ユニット 「エコサラ(R)」を出展します。 【見どころ】 「ゼロエネ予冷・再熱」の除湿給気ユニットによる省エネ空調、かつその他空調設備との組み合わせによる室内環境の改善 適切に湿度制御した外気を対象室内に導入して陽圧管理する空調システムにより、 食品工場内の製造室等の環境改善や製品の安定した品質確保に貢献します。 皆様のご来場をお待ちしております。
高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用） 4元マルチスパッタ（Φ6, 8inch用）
- 空気調和設備
- ダクト関連設備
BHシリーズ【UHV対応 超高温 真空薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃
高真空対応 多彩なヒーター材質オプション。 PVD（スパッタ、蒸着、EB等）、高温真空アニール、高温解析用基板ステージ、などに応用いただけます。 様々なご要望仕様にカスタムメイド対応致します。 【特徴】 ● 予備ヒーター素線との交換が容易 ●設置、メンテナンスが容易（M6スタッドボルト、支柱） 【対応基板サイズ】 ◉ Φ1inch〜Φ6inch 【標準付属品】 ● 熱電対：素線タイプ アルミナ絶縁スリーブ付き ● 取付用スタッドボルト 【オプション】 ● 標準外ヒーター素線（Nb, Mo, Pt/Re, WRe他） ● 基板保持クリップ ● 取付ブラケット ● 基板ホルダー ● ホルダー設置用タップ穴加工 ● トッププレート材質変更（PBN, 石英, カーボン, Inconel, 他） ● 過昇温用追加熱電対 ● ベースフランジ、真空導入端子
高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用） 4元マルチスパッタ（Φ6, 8inch用）
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ウエハーアニール装置【ANNEAL】Max1000℃ APC自動圧力制御 MFC x3系統 Φ4〜6inch基板対応
Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar） [ANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用アニール装置です。 高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により３種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター：Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター：Max1000℃（真空中、不活性ガスのみ） ・SiCコーティングヒーター：Max1000℃（真空、不活性ガス、O2）
