MEMS・IC・フォトマスクのレイアウト設計に。GDSIIやOASISなど多様なデータ形式に対応
LayoutEditorは、MEMSやIC、フォトマスクのレイアウトデータを作成・編集するソフトウェアです。 GDSIIをはじめ、OASIS、DXF、OpenAccess、Gerberなど多様なファイル形式に対応しており、既存の設計データを読み込んで図形の配置や形状を編集できます。 MEMS設計で使用される円・円弧・曲線や任意角度の形状も扱えるため、センサー、アクチュエーター、マイクロ流路など、複雑な形状を含むフォトマスクパターンの作成にも活用できます。 基本的なレイアウト編集にはReduced版、より高度な設計・解析にはFull版を選択できます。Full版では、設計ルールチェック（DRC）、3Dビューア、マクロ・スクリプトなどを利用でき、パターンの寸法・間隔の確認や繰り返し作業の自動化にも対応します。
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基本情報
【対象製品】 LayoutEditor – Reduced / Full メーカー：juspertor GmbH 【主な機能】 ・MEMS・IC・フォトマスク向けレイアウトの作成・編集 ・円、円弧、曲線、任意角度を含む図形の作成・編集 ・GDSII、OASIS、DXF、OpenAccess、Gerberなど多様なファイル形式に対応 ・回路図の作成・編集 ・設計ルールチェック（DRC）（Full版） ・レイアウトの3D表示（Full版） ・マクロ・スクリプトによる編集操作の自動化（Full版） 【動作環境】 対応OS：Windows / macOS / Linux ※仕様・動作環境は、メーカーの予告なく変更される場合があります。
価格情報
※価格は、為替相場の変動やメーカーの価格改定などにより、予告なく変更される場合があります。 最新の価格はお問い合わせください。
納期
用途／実績例
【主な用途】 ・MEMSセンサー、アクチュエーターなどのレイアウト設計 ・フォトマスク用パターンの作成・編集 ・IC・MMICのレイアウト作成、既存設計データの修正 ・マイクロ流路など曲線を含むMEMS構造の設計 ・薄膜・厚膜デバイスのパターン設計 ・既存のGDSII、DXFなどを利用した設計変更・試作 【活用例】 ■ MEMSデバイスの試作 既存のGDSIIデータを読み込み、電極や配線、微細構造などの形状・配置を編集。 試作条件に合わせたフォトマスク用レイアウトの作成に役立ちます ■ 曲線を含むMEMSパターンの作成 円や円弧、曲線、任意角度の図形を扱えるため、マイクロ流路やコーム構造など、 矩形だけでは表現しにくいMEMSパターンの設計にも利用できます ■ 設計ルールの確認 Full版では設計ルールチェック（DRC）を使用し、パターンの幅や間隔など、 設定したルールに沿ってレイアウトを確認できます ■ 繰り返し作業の自動化 Full版のマクロ・スクリプト機能を利用して、繰り返し行うレイアウト編集や 処理を自動化できます
ラインアップ（2）
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| LayoutEditor - Reduced | |
| LayoutEditor - Full |
カタログ（1）
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企業情報
テガラ株式会社は、全国の研究開発者様に向けた専門的な製品の調達販売や 情報提供、サポートなどのサービスを統合した研究開発プラットフォームを 形成しています。 スピードが価値を持つ研究開発の分野で、お客様の研究開発の スピードアップのためのお手伝いをし、ひいては日本および世界の 研究・開発の推進をお手伝いすることがテガラの考える使命です。 研究開発者様にとっての心強いパートナーであり続けるために、当社は日々 新しい技術を磨き続け、サポート体制の強化を行っております。 当社はインボイス制度（適格請求書等保存方式）に対応しております。 適格請求書発行事業者登録番号：T3080401003319 見積書・納品書・請求書・領収書などを適格請求書形式で発行可能です。
