～結晶成長・加工プロセス技術と各種課題への対応～ ＜書籍版／書籍＋PDF版（ＣＤ－ＲＯＭ）＞
○SiCの基本特性を把握！ ・SiC 原料粉末から単結晶・エピタキシャル薄膜まで、その特徴・物性 ○結晶成長プロセス技術と欠陥低減策 ・基礎理論から各手法・エピタキシャル薄膜成長技術と欠陥低減に向けた取り組み ・各種の欠陥検出・スクリーニング手法も網羅 ○ウェハコストの大半を占める加工工程を深掘！ ・切断・研磨・ＣＭＰ・洗浄等各プロセスに求められる要件とは？その取り組みとは？ ・加工の影響・ダメージを評価する各種検査法・シミュレーション手法について ・アニール処理やダイシング・接合プロセスなど関連のデバイス加工技術も網羅 ○SBD・MOSFET等、SiCパワーデバイス品質に関わる各種特性の制御・評価法 ・バイポーラ通電劣化他、様々な劣化メカニズムとその対策 ・界面特性や欠陥、キャリア寿命等の測定評価法、各種シミュレーション ・結晶欠陥や加工ダメージ、各種劣化現象が品質に及ぼす影響とは？ ○SiC量産・普及拡大に向けた動向・各種取り組み ・SiCウエハの市場・価格動向や今後期待されるアプリケーション ・シリコンウエハ製造加工プロセスとの比較検討
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基本情報
発刊 2025年12月9日 体裁 B5判 503ページ ISBN 978-4-86502-293-3 ★有料付録ＰＤＦ版（ＣＤーＲＯＭ）の仕様については、ＨＰにてご確認下さい。
価格情報
定価 〇書籍版：74,800円（税込（消費税10％）） 〇書籍版＋ＰＤＦ版セット：85,800円（税込（消費税10％））
価格帯
1万円 ~ 10万円
納期
※詳細はお問い合わせ下さい。
用途／実績例
目次（大項目のみ） 第1章 SiC 材料の種類・基本構造とその物性・特徴など 第2章 SiC ウェハの結晶成長 第3章 SiC ウェハ製造のための加工プロセス 第4章 SiC 半導体デバイス加工に向けた関連技術・部材 第5章 SiC パワーデバイスの品質・信頼性と性能向上 第6章 SiC 量産・普及拡大に向けた動向・各種取り組み
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企業情報
情報機構は化学・医薬・エレクトロニクス・機械・環境・化粧・食品等々の技術セミナーや、技術図書の出版、通信教育講座、セミナーを収録したDVDなどを通して業界発展の貢献を目指しております。
