非磁性加熱源を採用で、磁場中での高温熱処理が可能！熱処理後に雰囲気をキープしたまま冷却チャンバにに移動しガス冷却することが可能！
非磁性加熱源を採用している為、磁場中での高温熱処理ができ、熱処理後 に雰囲気をキープしたまま冷却チャンバに移動し、ガスフローすること によりガス冷却することが可能。 また、冷却水循環装置、各種インターロック付きで、オプションとして 外径50及び60用熱処理チャンバとの交換取付ができます。 【仕様（抜粋）】 ＜熱処理チャンバ/加熱機構＞ ■外径40×長さ236mm 水冷式二重SUS316L円筒型 ■到達圧力：E-3Pa以下 ■真空排気/ガス導入：SWG1/4ベローズバルブ ■加熱方式：カーボン円筒ヒータ ■サンプルホルダー：φ15×φ12×50L 石英坩堝 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【その仕様（抜粋）】 ＜冷却チャンバ/昇降機構＞ ■SUS304円筒型 一部水冷ジャケット付き ■到達圧力：E-3Pa以下 ■ガス導入：手動ダイアフラムバルブ ■試料交換機構：サンプル交換のために手動スライドステージ ■冷却時遮断バルブ：JISフランジ手動ゲートバルブ ■試料交換時昇降機構：台形ネジ式手動ハンドル ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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