取り扱いCAEソリューション

『Particle-PLUS』はマグネトロンスパッタ装置を得意とする 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析が可能です ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして 標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、 お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動　など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

• その他分析機器
• 科学計算・シミュレーションソフトウェア
• その他ソフトウェア

『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析が可能です ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして 標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、 お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動　など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

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『Particle-PLUS』 はプラズマ反応炉や化学蒸着(CVD)などのシミュレーションに適したプラズマ解析ソフトウエアです。

Particle-PLUSは、粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです。プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに有効なソフトです。二周波CCPや外部回路モデルなどの高度な物理モデルに対する解析も可能です。充実したサポートによりシミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことができます。プラズマを解析するのに粒子モデルを用い、電子・イオンを代表する粒子の運動を追跡するPIC / MC (Particle In Cell / Mote Carlo)法を採用しております。また、対象プラズマ密度に応じて比較的高密度では陰解法を、低密度では陽解法と使い分けることにより、複雑なモデルでも効率良く解くことができます。特に流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします。標準機能でのCCP、ICP、マグネトロンスパッタ計算はもちろんのこと、お客様の装置にあわせたカスタマイズも行っております。

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『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです

『Particle-PLUS』はCCPにも対応した プラズマを用いた装置・デバイス研究開発に適した シミュレーションソフトウェアです ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのシミュレーションを得意とする ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析 ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析 ・自社開発ソフトの強みとして 標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、 お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。 information@wavefront.co.jp

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• 科学計算・シミュレーションソフトウェア
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『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです

『Particle-PLUS』はCCPにも対応した プラズマを用いた装置・デバイス研究開発に適した シミュレーションソフトウェアです ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とする ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析 ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析 ・自社開発ソフトの強みとして 標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、 お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。 information@wavefront.co.jp

• その他分析機器
• 科学計算・シミュレーションソフトウェア
• その他ソフトウェア

「シャワーヘッド型CVD」解析にも対応した 希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』

シャワーヘッド型CVD装置内のガス流れのシミュレーション解析 はじめ様々なシミュレーションに対応 【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※受託解析もしておりますので、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 科学計算・シミュレーションソフトウェア

低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解析ソフト

【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 分析・予測システム
• 科学計算・シミュレーションソフトウェア

「コンタミネーションに影響するダスト挙動」解析にも対応した 希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』

「コンタミネーションに影響するダスト挙動」のシミュレーション解析 はじめ様々なシミュレーションに対応 【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※受託解析も行っておりますので、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 科学計算・シミュレーションソフトウェア
• その他ソフトウェア
• その他 水素・燃料電池

低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解析ソフト

【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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SOLIDWORKS上で高度な解析が簡単に行える！開発期間の短縮やコスト削減に！

『Simerics MP for SOLIDWORKS』はSOLIDWORKS上で操作できる CAD統合型熱流体解析ソフトウェアです。 SOLIDWORKSのGUIに統合され、設計から解析まで設計者自身で行えます。 計算設定も簡単なため、短期間で操作の習得が可能。 最適形状の検討や、問題の原因究明、性能の確認など 従来は外部に依頼していた各種解析を設計者自身で行うことで 開発期間の短縮や品質の向上、コスト削減につながります。 【特長】 ■流れ・乱流・熱伝導と熱対流など、幅広いシミュレーションに対応 ■CADサーフェスから直接かつ自動的に計算メッシュを生成 ■非常に高速で正確、堅牢なソルバー ■マイクロメートルスケールの形状など非常に困難な問題の反復計算も安定 ■物理的なテストと優れた相関性を示す正確な計算結果 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

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SOLIDWORKS上で高度な解析が簡単に行える！開発期間の短縮やコスト削減に！

『Simerics MP for SOLIDWORKS』はSOLIDWORKS上で操作できる CAD統合型熱流体解析ソフトウェアです。 SOLIDWORKSのGUIに統合され、設計から解析まで設計者自身で行えます。 計算設定も簡単なため、短期間で操作の習得が可能。 最適形状の検討や、問題の原因究明、性能の確認など 従来は外部に依頼していた各種解析を設計者自身で行うことで 開発期間の短縮や品質の向上、コスト削減につながります。 【特長】 ■流れ・乱流・熱伝導と熱対流など、幅広いシミュレーションに対応 ■CADサーフェスから直接かつ自動的に計算メッシュを生成 ■非常に高速で正確、堅牢なソルバー ■マイクロメートルスケールの形状など非常に困難な問題の反復計算も安定 ■物理的なテストと優れた相関性を示す正確な計算結果 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

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SOLIDWORKS上で高度な解析が簡単に行える！開発期間の短縮やコスト削減に

『Simerics MP for SOLIDWORKS』はSOLIDWORKS上で操作できる CAD統合型熱流体解析ソフトウェアです。 SOLIDWORKSのGUIに統合され、設計から解析まで設計者自身で行えます。 計算設定も簡単なため、短期間で操作の習得が可能。 最適形状の検討や、問題の原因究明、性能の確認など 従来は外部に依頼していた各種解析を設計者自身で行うことで 開発期間の短縮や品質の向上、コスト削減につながります。 【特長】 ■流れ・乱流・熱伝導と熱対流など、幅広いシミュレーションに対応 ■CADサーフェスから直接かつ自動的に計算メッシュを生成 ■非常に高速で正確、堅牢なソルバー ■マイクロメートルスケールの形状など非常に困難な問題の反復計算も安定 ■物理的なテストと優れた相関性を示す正確な計算結果 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

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モーラフィルターの技術応用！“臭い”に特化したマスクが登場！ 「 odor（臭い）＋lock（封じる）Mask（マスク）」 臭いの粒子の「小ささ」が、高性能マスクでも解決出来ない要因なのです。 労働環境・工場臭気・清掃作業 特殊な嫌気臭気の対策へご活用ください。 臭い粒＝0.001～0.2μｍ 「オド・ロックマスク」は微細な臭い粒子から発生する様々な臭気問題を解決します。

世界で地震の多い国の10カ国に入る日本。国土交通白書2020では大きな地震の発生確率の高まりも公表されています。 南海トラフ地震については、マグニチュード8～9クラスの地震の30年以内の発生確率が70～80％とされています。 ホトロンでは、建設物や設備機器への地震対策に感震装置の導入をおすすめしています。 感震装置『HK-2』は、震度5弱相当以上の強い揺れを感知した場合、 事前に設定した様々な制御を自動で行える製品です。 例えば、次のようなアクションを自動で実行できます。 「自動ドア・自動門扉を開いて、退路及び緊急車両の進入路を確保」 「管制室へ信号を伝達し、施設設備を停止」 「施錠されたロッカーの鍵を解錠」 「音声案内の自動再生」 ◎詳しくは資料ダウンロード又はお問い合わせください。

『HA-Tシリーズ』は、人通りが多い道でも狭い通路でも、 入りたい人にだけ開く省エネ自動ドアセンサーです。 手を近付けるだけで自動ドアが開くため、 不特定多数が利用する施設であっても、衛生面の課題をクリア。 用途や設置場所によって「無目取付型/HA-T401」「無目内蔵型/HA-T520」からお選びいただけます。 【こんな場所にオススメ！】 ☑入口が人通りの多い通路に面している ☑ドア付近にカウンターや看板等がある ☑狭い通路に面した建物 ☑美観を重視する建物 ☑衛生面を配慮する病院や施設 ☑多くのドアを構える大型施設 【特徴】 ●4通りの検出スポット設定で様々なドアタイプに適応 ●不要な開閉の削減でムダな電力消費を抑え、省エネ効果に貢献 ●光線タッチ機能搭載で手をかざすだけでドアを開閉できるので衛生的 ●検出範囲の広い無目付赤外線センサーとしても使える ◎詳しくは資料ダウンロード又はお問い合わせください。

株式会社セブンコーポレーションは、天然由来多機能水溶液「SEA'S 7」の機能拡張を目的として、防錆性能に関する研究開発を開始しました。本研究は工業技術研究所との共同研究として推進しています。近年、製造業では環境負荷低減と作業安全性向上を両立する技術が求められており、洗浄後の防錆対策が重要課題となっています。本研究では、金属試験片を用いた腐食評価、重量変化測定、循環水環境での耐久試験などを実施し、防錆メカニズムの解明と性能評価を進めています。将来的には、洗浄・除菌・脱臭に加え、防錆機能を備えた次世代SEA'S 7の開発を目指し、製造工程の効率化と環境負荷低減への貢献を図ります。

このたび“垂直アルミステップF式”を 新発売いたしますので、お知らせいたします。 “垂直アルミステップF式”は、掘削構内専用アルミ製はしご“垂直アルミステップ”の新タイプです。 垂直アルミステップはアルミ製で軽量なため持ち運びや設置が簡単に行えます。 また、連結式により高さは自由に組み合わせできます。（連結部材0.7ｍ、1.0ｍ、2.0ｍ）　 今回新発売するF式は、上記の旧式の特長を引き継ぎながら、更に便利にお使いいただけるようになりました。 <F式の特長> ■固定部のフック調整範囲が広がりました。 20mm～200mmまでの構造物への取付可 ■スタンドパイプの長さ調整が可能。 スタンドパイプが収納できるので運搬や保管が容易になりました。 <発売日> 2026年1月5日 <仕様> ・F式標準セット2.4m ※吊り固定部と連結部、それぞれの単品販売がございます ※旧式(スタンドパイプ固定式)の販売も継続して行います。