取り扱いCAEソリューション

『Particle-PLUS』はマグネトロンスパッタ装置を得意とする 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析が可能です ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして 標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、 お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動　など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

• その他分析機器
• 科学計算・シミュレーションソフトウェア
• その他ソフトウェア

『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析が可能です ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして 標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、 お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動　など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

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『Particle-PLUS』 はプラズマ反応炉や化学蒸着(CVD)などのシミュレーションに適したプラズマ解析ソフトウエアです。

Particle-PLUSは、粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです。プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに有効なソフトです。二周波CCPや外部回路モデルなどの高度な物理モデルに対する解析も可能です。充実したサポートによりシミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことができます。プラズマを解析するのに粒子モデルを用い、電子・イオンを代表する粒子の運動を追跡するPIC / MC (Particle In Cell / Mote Carlo)法を採用しております。また、対象プラズマ密度に応じて比較的高密度では陰解法を、低密度では陽解法と使い分けることにより、複雑なモデルでも効率良く解くことができます。特に流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします。標準機能でのCCP、ICP、マグネトロンスパッタ計算はもちろんのこと、お客様の装置にあわせたカスタマイズも行っております。

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『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです

『Particle-PLUS』はCCPにも対応した プラズマを用いた装置・デバイス研究開発に適した シミュレーションソフトウェアです ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのシミュレーションを得意とする ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析 ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析 ・自社開発ソフトの強みとして 標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、 お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。 information@wavefront.co.jp

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『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです

『Particle-PLUS』はCCPにも対応した プラズマを用いた装置・デバイス研究開発に適した シミュレーションソフトウェアです ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とする ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析 ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析 ・自社開発ソフトの強みとして 標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、 お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。 information@wavefront.co.jp

• その他分析機器
• 科学計算・シミュレーションソフトウェア
• その他ソフトウェア

「シャワーヘッド型CVD」解析にも対応した 希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』

シャワーヘッド型CVD装置内のガス流れのシミュレーション解析 はじめ様々なシミュレーションに対応 【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※受託解析もしておりますので、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 科学計算・シミュレーションソフトウェア

低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解析ソフト

【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 分析・予測システム
• 科学計算・シミュレーションソフトウェア

「コンタミネーションに影響するダスト挙動」解析にも対応した 希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』

「コンタミネーションに影響するダスト挙動」のシミュレーション解析 はじめ様々なシミュレーションに対応 【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※受託解析も行っておりますので、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 科学計算・シミュレーションソフトウェア
• その他ソフトウェア
• その他 水素・燃料電池

低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解析ソフト

【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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SOLIDWORKS上で高度な解析が簡単に行える！開発期間の短縮やコスト削減に！

『Simerics MP for SOLIDWORKS』はSOLIDWORKS上で操作できる CAD統合型熱流体解析ソフトウェアです。 SOLIDWORKSのGUIに統合され、設計から解析まで設計者自身で行えます。 計算設定も簡単なため、短期間で操作の習得が可能。 最適形状の検討や、問題の原因究明、性能の確認など 従来は外部に依頼していた各種解析を設計者自身で行うことで 開発期間の短縮や品質の向上、コスト削減につながります。 【特長】 ■流れ・乱流・熱伝導と熱対流など、幅広いシミュレーションに対応 ■CADサーフェスから直接かつ自動的に計算メッシュを生成 ■非常に高速で正確、堅牢なソルバー ■マイクロメートルスケールの形状など非常に困難な問題の反復計算も安定 ■物理的なテストと優れた相関性を示す正確な計算結果 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

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SOLIDWORKS上で高度な解析が簡単に行える！開発期間の短縮やコスト削減に！

『Simerics MP for SOLIDWORKS』はSOLIDWORKS上で操作できる CAD統合型熱流体解析ソフトウェアです。 SOLIDWORKSのGUIに統合され、設計から解析まで設計者自身で行えます。 計算設定も簡単なため、短期間で操作の習得が可能。 最適形状の検討や、問題の原因究明、性能の確認など 従来は外部に依頼していた各種解析を設計者自身で行うことで 開発期間の短縮や品質の向上、コスト削減につながります。 【特長】 ■流れ・乱流・熱伝導と熱対流など、幅広いシミュレーションに対応 ■CADサーフェスから直接かつ自動的に計算メッシュを生成 ■非常に高速で正確、堅牢なソルバー ■マイクロメートルスケールの形状など非常に困難な問題の反復計算も安定 ■物理的なテストと優れた相関性を示す正確な計算結果 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

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SOLIDWORKS上で高度な解析が簡単に行える！開発期間の短縮やコスト削減に

『Simerics MP for SOLIDWORKS』はSOLIDWORKS上で操作できる CAD統合型熱流体解析ソフトウェアです。 SOLIDWORKSのGUIに統合され、設計から解析まで設計者自身で行えます。 計算設定も簡単なため、短期間で操作の習得が可能。 最適形状の検討や、問題の原因究明、性能の確認など 従来は外部に依頼していた各種解析を設計者自身で行うことで 開発期間の短縮や品質の向上、コスト削減につながります。 【特長】 ■流れ・乱流・熱伝導と熱対流など、幅広いシミュレーションに対応 ■CADサーフェスから直接かつ自動的に計算メッシュを生成 ■非常に高速で正確、堅牢なソルバー ■マイクロメートルスケールの形状など非常に困難な問題の反復計算も安定 ■物理的なテストと優れた相関性を示す正確な計算結果 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

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当社は4月1日に社名を「株式会社キザシオ」へと改め、新たなスタートを切りました。 社名変更を記念して装いも新たに、恒例のソリューションフェアを更にパワーアップした 「KIZACIOソリューションフェア2025」を開催します！ 展示スペース例年比2倍のリアル会場と、3日間にパワーアップしたオンラインのダブル開催！ ＜朱鷺メッセ＞と＜オンライン特設サイト＞のご都合の良い会場でご参加いただけます。 「AIエージェントがひらく次世代DX」をテーマに、過去最大の出展70社、190以上の製品・ソリューションを展示いたします。 生成AIが創る次世代展示会をご満喫ください！ 政治学者である中林美恵子氏と、株式会社miibo 代表取締役CEOの功刀雅士氏による本イベント限定特別講演や DX,AI,ノーコードなどについて詳しく解説する最新ICT講演も開催します。 その他も「デジタルギフト」ゲットのWチャンスなどイベントが盛りだくさん！ DX推進へ、貴社にぴったりの製品がきっと見つかる！ 是非、キザシオソリューションフェア2025にご来場いただきますようよろしくお願いいたします。

お客様各位 リバウンドエレクトロニクスです。 貴社ますますご清栄のこととお慶び申し上げます。 平素は格別のご高配を賜り、誠にありがとうございます。 2025年Q1のマーケット情報を共有申し上げます。 あくまで弊リバウンドグループ独自調査に基づく見解となりますことをご承知おきください。 昨今、全般的に値上がりやリードタイムの長期化の基調にありますが、 特に アナログデバイス製品の値上げ傾向が顕著 に表れており、リードタイムも伸びております。 調達に際しては、価格変動やリードタイムの影響が懸念されるため、お早めのご相談をおすすめいたします。 弊社ではお客様の納期に沿った納品が可能ですので、弊社営業担当までご連絡お待ちしております。 今後も、お取引様の コストダウンやキャッシュフロー改善、在庫リスクの軽減 に貢献できるよう努めてまいります。 引き続きご愛顧のほど、よろしくお願い申し上げます。 以上 リバウンドエレクトロニクス株式会社 代表取締役　塚原 雅之

株式会社アドバンスブレイン（本社：大阪市西区、代表取締役 白根 健史）と大阪府は、中小企業の DX 推進を支援するため、事業連携協定を締結しました。 株式会社アドバンスブレインは、大阪府が立ち上げたプラットフォームにおいて、データやデジタル技術に関する「お困りごと」を抱える府内中小企業に対し、「大阪府 DX 推進パートナーズ」としてソリューションの提案を行っていきます。 2025年4月30日

『製造業の業務プロセスを変革する3D CADソフトウェア「Creo」』について、PC-Webzine に掲載いただきました。ぜひご覧ください。

『HA-Tシリーズ』は、人通りが多い道でも狭い通路でも、 入りたい人にだけ開く省エネ自動ドアセンサーです。 手を近付けるだけで自動ドアが開くため、 不特定多数が利用する施設であっても、衛生面の課題をクリア。 用途や設置場所によって「無目取付型/HA-T401」「無目内蔵型/HA-T520」からお選びいただけます。 【こんな場所にオススメ！】 ☑入口が人通りの多い通路に面している ☑ドア付近にカウンターや看板等がある ☑狭い通路に面した建物 ☑美観を重視する建物 ☑衛生面を配慮する病院や施設 ☑多くのドアを構える大型施設 【特徴】 ●4通りの検出スポット設定で様々なドアタイプに適応 ●不要な開閉の削減でムダな電力消費を抑え、省エネ効果に貢献 ●光線タッチ機能搭載で手をかざすだけでドアを開閉できるので衛生的 ●検出範囲の広い無目付赤外線センサーとしても使える ◎詳しくは資料ダウンロード又はお問い合わせください。