SEMICON Japan 2024へ出展いたします

加熱効率向上で省エネルギー化！高速応答性でサーマルバジェット低減を実現

『LEDアニール装置』は、ハロゲンヒータ、フラッシュランプに次ぐ 第三の光加熱源です。 加熱効率向上で省エネルギー化、高速応答性でサーマルバジェット低減を実現。 放射温度計によるリアルタイム温度計測が可能です。 また、基板表面の加熱ができ、金属材料に優れた加熱効率を発揮します。 【特長】 ■加熱効率向上 ■高速応答性 ■高精度温度計測 ■高均一性 ■基板表面の加熱が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ワークサイズに応じて、フラッシュランプを複数本配置！大面積で一括照射、高照射が可能！

『SUS980シリーズ』は、結晶化、剥離、酸化膜形成などの用途にお使いいただける フラッシュランプアニール装置です。 ランプに流れる電流を半導体スイッチでON／OFF制御することで、 ランプ電流パルス幅の調整が出来、加熱深度をコントロール(0.1～60msec)。 ワークサイズに応じて、フラッシュランプを複数本配置し大面積で一括照射、 高照射が可能です。 【特長】 ■深さコントロール(バルス制御) ■ランプに流れる電流を半導体スイッチでON／OFF制御 ■ランプ電流パルス幅の調整が出来、加熱深度をコントロール(0.1～60msec) ■複数パルスの照射も可能 ■高出力・大面積一括処理(タクト短縮、高均一度) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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フライヤなどの食品加熱用の熱源にも好適！気密性を高めた二重管ヒーターランプ

『直管形二重管ハロゲンヒータランプQIRT』は、二重管構造で密閉性を 高めたことにより、水や薬液、油などの液体につけて、直接加熱することが できるランプです。 また、二重管構造は、ランプ破損時の飛散を防ぐなど、安全性を高められることから、 フライヤなどの食品加熱用の熱源にも好適。 オーダーメイドシステムでは、任意の寸法、波長、設置条件、特性に合わせて 設計できます。 【ラインアップ】 ■QIRT100V500W ■QIRT100V700W ■QIRT200V2000W ■QIRT200V2000WL ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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加熱対象物の形状、照射範囲などから選択可能！ヒータユニットのご紹介

『ラインヒータユニット』は、ヒータランプとミラーを組み合わせ、 ライン状の加熱や大面積への加熱に威力を発揮する製品です。 寸法、特性を絞り込んで規格化したことで、コストパフォーマンスが高く、 試作検証や実験などに導入しやすくなっています。 また、必要な特性に合わせたオーダーメイドにも対応。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■ヒータランプとミラーを組み合わせ、ライン状の加熱や大面積への加熱に威力を発揮 ■寸法、特性を絞り込んで規格化 ■コストパフォーマンスが高い ■試作検証や実験などに導入しやすい ■必要な特性に合わせたオーダーメイドにも対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ユーザが求める温度、出力、寸法など！特性に合わせたランプ、ミラー形状、冷却方式を選定

『高出力ラインヒータユニット（オーダーメイド）』は、500℃を超える高温域での 光コントロールを可能にする高出力な製品です。 ユーザが求める温度、出力、寸法など、特性に合わせたランプ、ミラー形状、 冷却方式を選定し、完全オーダメイドで対応。 ミラー形状は、フォーカスタイプをはじめ、パラボラタイプ P、 パラボラタイプ N（コンパクト型・金メッキミラー仕様）をご用意しております。 【特長】 ■500℃を超える高温域での光コントロールを可能にする高出力なラインヒータユニット ■特性に合わせたランプ、ミラー形状、冷却方式を選定し、完全オーダメイドで対応 ■フォーカスタイプをはじめ、パラボラタイプ P、パラボラタイプ Nをご用意 ■パラボラタイプは広い面積を均一に照射可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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高効率なエネルギー源！赤外線ハロゲンヒータなどの光加熱製品をご紹介

当カタログでは、赤外線ハロゲンヒータを中心に光加熱製品を 掲載しております。 広い範囲を平面加熱することができる直管形ハロゲンヒータランプ「QIR」、 シリコンウェハの高温加熱装置等に適したサークル形ハロゲンヒータランプ 「QIR Circle」などをラインアップ。 その他にも「フラッシュランプアニール装置　SUS980 シリーズ」と 「LED アニール装置」についてもご紹介しています。 【掲載内容(一部)】 ■光加熱とは ■赤外線ハロゲンヒータ ■赤外線ハロゲンヒータの用途 ■赤外線ハロゲンヒータの種類と特殊加工 ■直管形ハロゲンヒータランプ　QIR ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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大面積で一括照射・高照度での照射が可能！複数パルスの照射もできる加熱装置

『フラッシュランプアニール装置』は、1秒以内で瞬時に対象物を アニールする光応用加熱装置です。 UVから可視・赤外域までの連続波長を有したクセノンフラッシュランプの 光により、0.1～60msecの範囲を任意に可変可能。 焼成、剥離、表面改質など幅広いスペクトルを利用した様々な用途に お使いいただけます。 【特長】 ■スペクトル ・紫外から可視・赤外領域まで幅広い波長特性 ■高出力・大面積一括処理(タクト短縮、高均一度) ・ワークサイズに応じて、フラッシュランプを複数本配置し、 　大面積で一括照射、高照度(Max70J/cm2)での照射が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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真空対応などの加工が可能！円形状または、円形範囲への加熱が必要な場合に活用できます！

『サークル形ハロゲンヒータランプQIR Circle』は、シリコンウェハの 高温加熱装置などに好適なサークル状のランプです。 円形状または、円形範囲への加熱が必要な場合に活用できます。希望のサイズ、 特性に応じた設計ができ、真空対応などの加工も可能。 オーダーメイドシステムでは、最大サークル径500mmまで任意の寸法、波長、 設置条件、特性に合わせて設計できます。 【特長】 ■シリコンウェハの高温加熱装置などに好適なサークル状のランプ ■円形状または、円形範囲への加熱が必要な場合に活用できる ■希望のサイズ、特性に応じた設計でき、真空対応などの加工も可能 ■最大サークル径500mmまで任意の寸法、波長、設置条件、特性に合わせて設計可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【事例紹介】液体の保温・加熱

伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源による、液体の保温・過熱の事例紹介です 【特徴】 ○半導体製造ラインにおけるシリコンウェハの洗浄 　液晶製造ラインにおけるガラス基板の洗浄などに使用される 　純水や薬液を保温・加湿することが可能 ○高品質の石英ガラスで2重に覆われた 　ハロゲンランプで構成されているため、不純物汚染が少なく 　加熱効率95％以上と高効率に加熱することが可能 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

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【事例紹介】成膜装置のプレヒート

統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源による、成膜装置のプレヒートの事例紹介です。 真空環境下においても非接触・高速昇温性を持った ハロゲンランプヒータを使用することにより 半導体・FPD・太陽電池などの成膜工程において タクトタイム短縮に貢献することができる ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

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【事例紹介】RTP（ラピッドサーマルプロセス）

伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源によるRTPの事例紹介です。 かつての半導体熱処理は、ファーネス（断熱）が一般的だったが ナノオーダーのデバイスの場合、薄い膜形成や浅い接合が必要となり アイソサーマルの代名詞ともなっているRTPがキーテクノロジーとなっています。 また、次世代半導体においては、熱流束技術として フラッシュランプアニールが主流となっています。 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

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ウシオの光で出来ること　熱する『接合』

伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例（接合）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：ハロゲンランプヒータ ○各種ヒートシンクの配管溶接にハロゲンヒータが採用 ○ハロゲンヒータの光は輻射熱として 　照射されるため、温風タイプとは異なり 　周囲環境に左右されにくく 　短時間で所定温度まで昇温が可能 ○ガスバーナなどの加熱とは異なりCO2の環境負荷に適している ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

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ウシオの光で出来ること『不純物拡散』

統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例（不純物拡散）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：クセノンフラッシュランプ・ハロゲンヒータランプ ○半導体工程において、ソースドレインにインプラントを行い 　その後、アニール工程によってドーピングした不純物を活性化 ○クセノンフラッシュランプの特性を活かし 　ミリ秒単位という短時間で今までの活性層の深さに比較して 　極めて浅い部分（nmオーダー）を高温アニールし 　不純物の拡散を防ぐことが可能 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

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ウシオの光で出来ること『加熱/成膜』

伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例（加熱/成膜）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：ハロゲンランプヒータ ○半導体・FPD・太陽電池などの製造プロセスにおける 　金属膜、絶縁膜の形成に用いられる 　CVDやスパッタリング装置の熱源として最適 ○さらに成膜前の、水分除去や予備加熱にハロゲンランプヒータを 　用いることで、スループット向上と高品質な膜形成を実現 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

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3次元反射光シミュレーションを経て設計！優れた加熱均一性と昇温性能

『サークルヒータユニット』は、主にシリコンウェハの急速加熱や ガラスレンズの成形前加熱などに好適な製品です。 3次元反射光シミュレーションを経て設計された反射鏡とランプを 適切に配置。優れた加熱均一性と昇温性能を持っています。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【UL-HU-CH36KW/STD 仕様（抜粋）】 ■定格電圧：200V ■消費電力：36kW ■ユニット外径：470mm ■ユニット奥行：235.5mm ■重量：30kg ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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シンボルマークについて 社名の頭文字「S」と「D」を1本のラインで描き図案化しました。 1本のラインは一貫性を持ってUVと共に未来へ向かって行く様子を表現しました。 未来へ続いていく流動的をイメージした「S」の破線は、「三共」にちなんで3つ取り入れています。 Sの流れるような形状は、私たちが変化に柔軟に対応しながらも、持続可能な成長を追求する姿勢を表しています。 また、破線部分は、過去から未来へと繋がる継続性を象徴し、全体として「前進する企業」の力強さを表現しています。 カラーは、UVランプをイメージした紫と、信頼感を象徴する青を組み合わせることで企業イメージを表現しています。 紫は高い技術力や専門性を、青は信頼感や誠実さを示しています。 2色の組み合わせにより、革新と信頼が調和した企業イメージを打ち出し、ブランド全体にわたる一貫したビジュアルアイデンティティを確立しています。

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企業理念 一、良い製品をつくって社会に貢献しよう。 一、良い製品をつくって会社を発展させよう。 一、良い製品をつくって生活を向上させよう。 三共電気は、1947年の創業以来、光エネルギー技術を利用してさまざまな分野へUVランプをはじめとした製品やサービスを提供してまいりました。その裾野は国内のみならず国外まで広がり、今では世界各国の光エネルギー分野で高い評価と信頼をいただいております。 「多くの人々の『生活の質』を向上させたい。」 三共電気はこれからもその想いを社員全員で共有し、その想いの実現へ全力を尽くすことで、豊かな社会を作ることへの更なる貢献をしていきたいと考えています。

高度な技術と厳しい品質管理のもと製造されたUVランプは、高い耐久性と信頼性を誇ります。 幅広い分野で活躍するUVランプの製造工程をぜひご覧ください。

当社製品に関連する技術情報について関連リンク先に掲載しています。是非、ご覧ください。 ・紫外線の分類 ・紫外線の利用例 ・低圧水銀ランプ ・LED ・光