SEMICON Japan 2024へ出展いたします

加熱効率向上で省エネルギー化！高速応答性でサーマルバジェット低減を実現

『LEDアニール装置』は、ハロゲンヒータ、フラッシュランプに次ぐ 第三の光加熱源です。 加熱効率向上で省エネルギー化、高速応答性でサーマルバジェット低減を実現。 放射温度計によるリアルタイム温度計測が可能です。 また、基板表面の加熱ができ、金属材料に優れた加熱効率を発揮します。 【特長】 ■加熱効率向上 ■高速応答性 ■高精度温度計測 ■高均一性 ■基板表面の加熱が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ワークサイズに応じて、フラッシュランプを複数本配置！大面積で一括照射、高照射が可能！

『SUS980シリーズ』は、結晶化、剥離、酸化膜形成などの用途にお使いいただける フラッシュランプアニール装置です。 ランプに流れる電流を半導体スイッチでON／OFF制御することで、 ランプ電流パルス幅の調整が出来、加熱深度をコントロール(0.1～60msec)。 ワークサイズに応じて、フラッシュランプを複数本配置し大面積で一括照射、 高照射が可能です。 【特長】 ■深さコントロール(バルス制御) ■ランプに流れる電流を半導体スイッチでON／OFF制御 ■ランプ電流パルス幅の調整が出来、加熱深度をコントロール(0.1～60msec) ■複数パルスの照射も可能 ■高出力・大面積一括処理(タクト短縮、高均一度) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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フライヤなどの食品加熱用の熱源にも好適！気密性を高めた二重管ヒーターランプ

『直管形二重管ハロゲンヒータランプQIRT』は、二重管構造で密閉性を 高めたことにより、水や薬液、油などの液体につけて、直接加熱することが できるランプです。 また、二重管構造は、ランプ破損時の飛散を防ぐなど、安全性を高められることから、 フライヤなどの食品加熱用の熱源にも好適。 オーダーメイドシステムでは、任意の寸法、波長、設置条件、特性に合わせて 設計できます。 【ラインアップ】 ■QIRT100V500W ■QIRT100V700W ■QIRT200V2000W ■QIRT200V2000WL ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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加熱対象物の形状、照射範囲などから選択可能！ヒータユニットのご紹介

『ラインヒータユニット』は、ヒータランプとミラーを組み合わせ、 ライン状の加熱や大面積への加熱に威力を発揮する製品です。 寸法、特性を絞り込んで規格化したことで、コストパフォーマンスが高く、 試作検証や実験などに導入しやすくなっています。 また、必要な特性に合わせたオーダーメイドにも対応。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■ヒータランプとミラーを組み合わせ、ライン状の加熱や大面積への加熱に威力を発揮 ■寸法、特性を絞り込んで規格化 ■コストパフォーマンスが高い ■試作検証や実験などに導入しやすい ■必要な特性に合わせたオーダーメイドにも対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ユーザが求める温度、出力、寸法など！特性に合わせたランプ、ミラー形状、冷却方式を選定

『高出力ラインヒータユニット（オーダーメイド）』は、500℃を超える高温域での 光コントロールを可能にする高出力な製品です。 ユーザが求める温度、出力、寸法など、特性に合わせたランプ、ミラー形状、 冷却方式を選定し、完全オーダメイドで対応。 ミラー形状は、フォーカスタイプをはじめ、パラボラタイプ P、 パラボラタイプ N（コンパクト型・金メッキミラー仕様）をご用意しております。 【特長】 ■500℃を超える高温域での光コントロールを可能にする高出力なラインヒータユニット ■特性に合わせたランプ、ミラー形状、冷却方式を選定し、完全オーダメイドで対応 ■フォーカスタイプをはじめ、パラボラタイプ P、パラボラタイプ Nをご用意 ■パラボラタイプは広い面積を均一に照射可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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高効率なエネルギー源！赤外線ハロゲンヒータなどの光加熱製品をご紹介

当カタログでは、赤外線ハロゲンヒータを中心に光加熱製品を 掲載しております。 広い範囲を平面加熱することができる直管形ハロゲンヒータランプ「QIR」、 シリコンウェハの高温加熱装置等に適したサークル形ハロゲンヒータランプ 「QIR Circle」などをラインアップ。 その他にも「フラッシュランプアニール装置　SUS980 シリーズ」と 「LED アニール装置」についてもご紹介しています。 【掲載内容(一部)】 ■光加熱とは ■赤外線ハロゲンヒータ ■赤外線ハロゲンヒータの用途 ■赤外線ハロゲンヒータの種類と特殊加工 ■直管形ハロゲンヒータランプ　QIR ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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大面積で一括照射・高照度での照射が可能！複数パルスの照射もできる加熱装置

『フラッシュランプアニール装置』は、1秒以内で瞬時に対象物を アニールする光応用加熱装置です。 UVから可視・赤外域までの連続波長を有したクセノンフラッシュランプの 光により、0.1～60msecの範囲を任意に可変可能。 焼成、剥離、表面改質など幅広いスペクトルを利用した様々な用途に お使いいただけます。 【特長】 ■スペクトル ・紫外から可視・赤外領域まで幅広い波長特性 ■高出力・大面積一括処理(タクト短縮、高均一度) ・ワークサイズに応じて、フラッシュランプを複数本配置し、 　大面積で一括照射、高照度(Max70J/cm2)での照射が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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真空対応などの加工が可能！円形状または、円形範囲への加熱が必要な場合に活用できます！

『サークル形ハロゲンヒータランプQIR Circle』は、シリコンウェハの 高温加熱装置などに好適なサークル状のランプです。 円形状または、円形範囲への加熱が必要な場合に活用できます。希望のサイズ、 特性に応じた設計ができ、真空対応などの加工も可能。 オーダーメイドシステムでは、最大サークル径500mmまで任意の寸法、波長、 設置条件、特性に合わせて設計できます。 【特長】 ■シリコンウェハの高温加熱装置などに好適なサークル状のランプ ■円形状または、円形範囲への加熱が必要な場合に活用できる ■希望のサイズ、特性に応じた設計でき、真空対応などの加工も可能 ■最大サークル径500mmまで任意の寸法、波長、設置条件、特性に合わせて設計可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【事例紹介】液体の保温・加熱

伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源による、液体の保温・過熱の事例紹介です 【特徴】 ○半導体製造ラインにおけるシリコンウェハの洗浄 　液晶製造ラインにおけるガラス基板の洗浄などに使用される 　純水や薬液を保温・加湿することが可能 ○高品質の石英ガラスで2重に覆われた 　ハロゲンランプで構成されているため、不純物汚染が少なく 　加熱効率95％以上と高効率に加熱することが可能 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

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【事例紹介】成膜装置のプレヒート

統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源による、成膜装置のプレヒートの事例紹介です。 真空環境下においても非接触・高速昇温性を持った ハロゲンランプヒータを使用することにより 半導体・FPD・太陽電池などの成膜工程において タクトタイム短縮に貢献することができる ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

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【事例紹介】RTP（ラピッドサーマルプロセス）

伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源によるRTPの事例紹介です。 かつての半導体熱処理は、ファーネス（断熱）が一般的だったが ナノオーダーのデバイスの場合、薄い膜形成や浅い接合が必要となり アイソサーマルの代名詞ともなっているRTPがキーテクノロジーとなっています。 また、次世代半導体においては、熱流束技術として フラッシュランプアニールが主流となっています。 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

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ウシオの光で出来ること　熱する『接合』

伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例（接合）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：ハロゲンランプヒータ ○各種ヒートシンクの配管溶接にハロゲンヒータが採用 ○ハロゲンヒータの光は輻射熱として 　照射されるため、温風タイプとは異なり 　周囲環境に左右されにくく 　短時間で所定温度まで昇温が可能 ○ガスバーナなどの加熱とは異なりCO2の環境負荷に適している ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

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ウシオの光で出来ること『不純物拡散』

統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例（不純物拡散）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：クセノンフラッシュランプ・ハロゲンヒータランプ ○半導体工程において、ソースドレインにインプラントを行い 　その後、アニール工程によってドーピングした不純物を活性化 ○クセノンフラッシュランプの特性を活かし 　ミリ秒単位という短時間で今までの活性層の深さに比較して 　極めて浅い部分（nmオーダー）を高温アニールし 　不純物の拡散を防ぐことが可能 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

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ウシオの光で出来ること『加熱/成膜』

伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例（加熱/成膜）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：ハロゲンランプヒータ ○半導体・FPD・太陽電池などの製造プロセスにおける 　金属膜、絶縁膜の形成に用いられる 　CVDやスパッタリング装置の熱源として最適 ○さらに成膜前の、水分除去や予備加熱にハロゲンランプヒータを 　用いることで、スループット向上と高品質な膜形成を実現 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

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3次元反射光シミュレーションを経て設計！優れた加熱均一性と昇温性能

『サークルヒータユニット』は、主にシリコンウェハの急速加熱や ガラスレンズの成形前加熱などに好適な製品です。 3次元反射光シミュレーションを経て設計された反射鏡とランプを 適切に配置。優れた加熱均一性と昇温性能を持っています。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【UL-HU-CH36KW/STD 仕様（抜粋）】 ■定格電圧：200V ■消費電力：36kW ■ユニット外径：470mm ■ユニット奥行：235.5mm ■重量：30kg ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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パーティションメーカーのアイピック株式会社が、建築基準法における不燃材料の定義と、オフィス内装におけるその重要性を解説いたします。 防火材料は火災時の安全性に応じて不燃・準不燃・難燃の3段階に分類されます。アイピックでは、建物の規模や用途によって使用が義務付けられる「内装制限」がに対応する、高い防火性能を証明する不燃認定を受けたアルミパーテーションを取り扱っております。 適切な素材の選定は、従業員の生命を守るだけでなく、企業の資産保護や事業継続計画（BCP）の観点からも極めて重要です。法規制の遵守とデザイン性を両立させた安全な空間づくりをご提案いたします。 ＊＊＊＊＊＊＊＊＊＊＊＊＊＊＊＊＊＊＊ オフィスからトイレブースまで、内装間仕切りの設計施工は、パーティション専門メーカーのアイピックにお任せ下さい！ 「ライブオフィス＆ショールーム見学のご予約を承っております。」 東京都千代田区岩本町3-8-16NMF神田岩本町ビル6F お問い合わせはフリーダイアル 0120-020-720 (平日10:00～17:00)までお気軽に！

JECA FAIR 2026 第74回電設工業展に出展いたします。 期間：５月２７日・２８日・２９日 会場：東京ビックサイト　東１・２・３・８ホール ぜひ御来場のほど宜しくお願いいたします。

白山工業株式会社（本社：東京都府中市、代表取締役社長：吉田稔 https://www.hakusan.co.jp/）と株式会社JR東日本建築設計（本社：東京都渋谷区、代表取締役社長：伊藤喜彦 https://www.jred.co.jp/）にて共同開発したJRE被災度判定支援システムGragramが、 2026年3月28日にグランドオープンするTAKANAWA GATEWAY CITYおよび、まちびらきとなるOIMACHI TRACKSの全棟に導入されました。 詳しくは以下のリンク資料をご覧ください。

弊社は2026年3月27日付で、興和株式会社からの株式譲渡により、株式会社SmartHR の完全子会社となりましたのでお知らせいたします。 本件は、株式会社SmartHRが有する強固な経営資源とネットワークを最大限に活用し、弊社のサービス提供体制をより安定的かつ高度なものへと進化させるための前向きな決断でございます。 なお、株主変更後におきましても、弊社の事業内容、商号、およびサービス提供体制に変更はございません。これまで以上に、皆様のご期待に沿えるよう役職員一丸となって邁進する所存です。 本件の詳細につきましては、SmartHR社プレスリリースも併せてご参照ください。 今後とも変わらぬご指導ご鞭撻を賜りますよう、心よりお願い申し上げます。

　製品ラインアップに、掃流区間において不透過型砂防堰堤に設置する流木捕捉工「RBキャッチャー」を新たに追加し、販売を開始しました。 　RBキャッチャーは、不透過型砂防堰堤の上流部に直接取り付けて流木捕捉機能を向上させます。従来用いられている直線配置とは異なり、ユニット間に隙間ができる配置構造で、流木を捕捉した後も水の通り道を確保するため閉塞を起こさず堰上げを抑制します。これにより、後続の流木が越流することなく確実に捕捉し、下流への被害を防ぎます。 　新たに流木捕捉工をラインアップに加えることで、現場における様々なニーズに柔軟に対応していきます。