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株式会社アークステーション

設立2006年8月1日
資本金1000万
従業員数25名
住所神奈川県横浜市中区山下町51番地1 読売横浜ビル8階
電話045-263-9021
  • 公式サイト
最終更新日:2024/05/23
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AMCモニタリング装置『SAM-S』

1台のシステムで最大3種類のガス(NH3、HF、HCI)を監視することが可能!

『SAM-S』は、空洞リングダウン分光(CRDS)分析装置を 高性能サンプリングシステムに統合したAMCモニタリング装置です。 高流量のガス流量を可能にし、クロスポートの汚染を最小限に抑え、 正確なAMC濃度を迅速に報告。 また、最大16の異なる場所をサンプリングできるように構成することができ、 PicarroのSI3401ガス・アナライザーと組み合わせて、アンモニア(NH3)、 フッ化水素(HF)、塩化水素(HCl)を測定することができます。 【特長】 ■インラインAMC監視システム ■pptレベルでのNH3、HF、HClの測定 ■秒オーダーの応答時間 ■最小限のセットアップ時間 ■クリーンルーム内の複数の場所を監視 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他計測器

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【資料】株式会社アークステーション 取扱製品概要

ムーブメントを顧客と一緒に創造していく専門集団!半導体分野における技術貢献を提供

当資料では、株式会社アークステーションで取り扱っている製品 について解説しております。 販売・サービス代理店業務における取り扱いプロダクト ポートフォリオを掲載しており、前工程や後工程、加工処理 などの製品をご紹介。 また、保守・メインテナンス請負業務での主な保守サポート装置 などもご覧いただけます。 【掲載内容】 ■会社概要 ■サステナビリティ ■販売・サービス代理店業務 ■保守・メインテナンス請負業務 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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光干渉式膜厚測定装置『Model3100』

多数の納入実績を誇る業界標準機!リニアアレー受光素子を採用

『Model3100』は、受光素子にリニアアレー素子を採用し、 高速測定を実現した光干渉式膜厚測定装置です。 スペクトル解析ソフトを標準搭載することにより、多層膜(通常3層まで)の 同時測定および光学定数(n,k)の測定が可能。 各種膜特性に適合したきめ細かなパラメータの設定ができ、より豊富な 各種膜構造の膜厚測定ができます。 【特長】 ■高感度高分解能ヘッド(オプション)にて酸化膜換算で70μmまで測定可能 ■100倍レンズ(φ0.75μmの微小スポット)も使用可能 ■プロセスに適合した特殊膜測定用のプログラム設定が容易に実現可能 ■さまざまなアプリケーション(磁気ヘッド、FPD、材料研究等)に対応し、  用途別に試料台作成可能(オプション) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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UHV Cleaned Aluminum(アルミホイル)

パーティクルフリーでオイルフリー!ハンドリングしやすい1本10m巻のアルミホイルです

当製品は、パーティクルフリー、オイルフリーのアルミホイルです。 クリーンルーム内での精密部品、半導体製造装置の梱包、養生並びに 真空装置内の防着板、マスキングシート、熱シールド等に好適。 パーティクル発生数が低く、ハンドリングしやすい1本10m巻きです。 【仕様】 ■厚さ:0.0254mm ■巾:300mm ■真空パック、プラスティックコア、脱酸素剤入 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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