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『TDS1200II』は、超高真空環境で試料を赤外線で加熱した際に、試料 から放出される成分を、四重極質量分析計(QMS)で、リアルタイム検出 する分析装置です。 本製品は、測定の効率化、分析チャンバの良質な超高真空環境維持のため に必須なロードロックを装備しており、分析チャンバ内の圧力を大気圧に してから試料をセットする必要がありません。 また、QMSの配置により、高感度を実現しています。 【特長】 ■高感度 ■QMSの配置 ■ロードロック装備 ■リアルタイム検出 ■良質な超高真空環境維持 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
拡散性水素の分析でお困りではございませんか？ 本製品はマイナス温度からの測定が可能なため、常温で抜けてしまうような拡散性水素の分析が可能です。 ・水素の定量 ・水素の状態分析 これらをご希望の場合は、ぜひ本装置をご検討ください！
高周波加熱型昇温脱離分析装置IH-TDS1700は、超高真空中で試料を電磁誘導加熱することにより、試料から脱離する分子を四重極質量分析計（QMS）でリアルタイム観測する分析装置です。超高真空であるためバックグラウンドが低く高感度な測定が可能です。大気や発生ガスなどによる副反応の影響も大幅に抑えられているため 理想的な状態で試料からの脱離分子を観測することができます。 加熱効率の良い金属サンプルの場合、1700℃以上の加熱が可能です。また、鋼鉄材料の水素脆化因子となる鋼中拡散性水素の低温TDS測定も可能です。 装置本体の制御はPLC(Programmable Logic Controller)により自動で行われ、インターフェースにタッチパネルを採用しております。
弊社の赤外線加熱型昇温脱離分析装置に、パッケージ内包ガス破砕機構を搭載いたしました。 測定モードを切り替えることで、赤外線加熱型TDSとしても、パッケージ破砕分析装置(IVA分析)としてもご利用いただけます。 【赤外線加熱型TDS】 ・TDS1200_2に準じます。 【パッケージ破砕機構】 ・サンプルサイズ(標準)：7mm×7ｍｍ×3mm(サンプルサイズに関しては別途ご相談ください。) ・測定可能な内容積：0.001ml~1ml ・分析対象ガス：H2,He,H2O,N2,CO,O2,Ar,CO2 ※詳しくはPDFダウンロードいただくか、お問い合わせください。
TDS装置の製造・販売だけではなく、受託測定も承っております。 長年TDS専業メーカーとして培ってきたノウハウを活かし、常時良好な状態に維持された装置と、熟練した専任オペレーターによってお客様の材料トラブルの解決に努めます。 【保有装置】 ・赤外線加熱型 昇温脱離分析装置：2台 ・高周波加熱型 昇温脱離分析装置：1台
『昇温脱離分析法』は、古くは触媒分野で酸点・塩基点を 評価するために使用されてきた方法です。 一旦、触媒の温度を高温まで上昇させ吸着しているガスを除去し、 その後NH3やCO2を吸着。 その触媒を、再度プログラミングした条件で昇温させることでNH3やCO2を 再離脱させ、その脱離量から酸点・塩基点を評価します。 【利用分野】 ■半導体分野において材料評価やプロセス設計支援 ■各種薄膜(撥水、光学、対摩耗、光触媒) ■構造材料(ガラスファイバ、真空部品、セラミックス) ■吸蔵材料(水素吸蔵)など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
