成膜受託加工サービス（CVD/スパッタリング）
基板上に絶縁膜や金属膜などの薄膜を形成する成膜を行っており、 試作・開発・量産まで受託加工サービスをご提供いたします。
CVD装置とスパッタ装置を保有しており、 プラズマCVD装置では、SiO2、SiN、SiON、a-Si膜を成膜する事が可能です。 スパッタリング装置では、Ti、Cu、Ni、Cr、AI、Ta、AICu、NiCr、AlSiCu、Ta2O5等の膜を成膜する事が可能です。 その他の膜種につきましては、応相談となります。 また、対応可能な基板としてはシリコン、石英（ガラス）、サファイア、SiC、GaN、GaAs、InP 等(その他応相談) Φ８インチサイズまでの物であれば異形基板にも対応可能。
- 企業：株式会社九州セミコンダクターKAW 山香工場
- 価格：応相談
