更新日： 集計期間:2026年03月11日～2026年04月07日
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半導体や太陽電池の生産・研究開発設備！独自の高温処理技術による高温熱処理炉
大村技研では、独自の高温処理技術による高温熱処理炉を生産設備および 研究開発向けに提供します。 主要製作装置としては、拡散炉、エピタキシャル装置、CVD装置、 エッチング装置、半導体製造設置用コントローラーなどがあります。 また、小口径基板に適した縦型電気炉や、太陽電池製造用横型拡散炉、 横型CVD装置・LC6400シリーズなどもラインアップされています。 【特長】 ■生産設備・研究開発向けの高温処理炉 ■半導体製造や太陽電池製造などに好適 ■多様なラインアップ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
油冷鋼・空冷鋼・ハイス鋼の熱処理が１台で可能な全自動型熱処理装置
また、従来それぞれに専用機を必要とした油冷鋼と空冷鋼に加え、高温加熱を要するハイス鋼の熱処理が この一台で処理可能な複合型熱処理装置です。 全密閉構造の中に加熱室、ガス冷却室、油槽が一体化されており、雰囲気中無酸化焼入れができます。 【特徴】 ▷ 油冷鋼、空冷鋼、ハイス鋼の焼入れが一台で処理可能 ▷ 省スペースで設置 ▷ プログラムで自動運転のため、誰でも簡単操作 ▷ ヒーターは6面設置のため、良好な温度分布 ▷ マッフルレス方式やユニットヒーターにより、メンテナンスが簡易 ◎詳しくはカタログをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
大風量ファン、大容量熱交換器の採用により、均一且つ急速冷却が可能！
当社では、ユーザーニーズに見合った真空熱処理装置の技術開発に取り組み、 加工部門に導入することでより品質の高いサービスを提供しています。 当社の真空熱処理は、冷却室内上下に冷却ファンを設置し、交互運転による 歪の少ない冷却が可能。 また、高温加熱時に均一な昇温を確保し、金属溶着を防止する為の ガス保持加熱が可能です。 【特長】 ■優れた冷却性能 ■上下冷却ファンによる歪の減少 ■ガス保持加熱（特許技術） ■良好な温度分布精度 ■優れた断熱効果 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
幅広い用途にお使いいただけます！排熱による作業環境の悪化が格段に改善
『ハイブリットキルンmini』は、IHによる外熱加熱と過熱水蒸気 による内熱加熱方式を併用したバッチ式の熱処理装置です。 研究所や開発室における商品開発、製品開発などに好適。 過熱蒸気を併用することで、無酸素雰囲気を作り出すので原料内部への 熱浸透性など加熱特性を生かした、より均質な製品はもちろん新たな 付加価値を持った製品を作り出すことが出来ます。 【機械仕様と加熱の仕組み】 ■キルン加熱温度・過熱蒸気温度：Max300℃ ■IHインバーター出力：キルン加熱、過熱蒸気共に2.5Kw ■温度制御 ：PID 制御 ■キルン容量 ：4L(※10Lサイズもあります) ■電気容量 ：3P 200V 30A ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
アルミ鋳造現場で活躍する熱処理装置のラインナップをご紹介いたします。
【SHOEIのアルミ装置の特長】 ・ワークの処理条件(T-4,T-5,T-6等)、処理量に合わせて最適な設計が可能 →自動車部品・アルミ鋳造品・鉄・非鉄金属など様々な産業の高温分野で積み上げた経験と実績がございます。 ・ガス・電気両方の熱源を選択可能 さらに環境に配慮した省エネ・低炭素・脱炭素技術をご提案いたします！ 〇電気とガスのハイブリッド加熱 〇熱交換器による廃熱回収 〇排熱回収ガスバーナー 〇低NOxガスバーナー 〇空気比の最適制御 〇高効率の電気ヒーター ・バッチ式、連続式、バスケットレス式をラインナップ →少量多品種、多量少品種など条件に合わせた炉体をご提案。 →設置場所を考慮した柔軟な設計が可能。付帯設備を含めた最適設計で生産効率向上に寄与します。
