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半導体や太陽電池の生産・研究開発設備！独自の高温処理技術による高温熱処理炉
大村技研では、独自の高温処理技術による高温熱処理炉を生産設備および 研究開発向けに提供します。 主要製作装置としては、拡散炉、エピタキシャル装置、CVD装置、 エッチング装置、半導体製造設置用コントローラーなどがあります。 また、小口径基板に適した縦型電気炉や、太陽電池製造用横型拡散炉、 横型CVD装置・LC6400シリーズなどもラインアップされています。 【特長】 ■生産設備・研究開発向けの高温処理炉 ■半導体製造や太陽電池製造などに好適 ■多様なラインアップ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
幅広い用途にお使いいただけます！排熱による作業環境の悪化が格段に改善
『ハイブリットキルンmini』は、IHによる外熱加熱と過熱水蒸気 による内熱加熱方式を併用したバッチ式の熱処理装置です。 研究所や開発室における商品開発、製品開発などに好適。 過熱蒸気を併用することで、無酸素雰囲気を作り出すので原料内部への 熱浸透性など加熱特性を生かした、より均質な製品はもちろん新たな 付加価値を持った製品を作り出すことが出来ます。 【機械仕様と加熱の仕組み】 ■キルン加熱温度・過熱蒸気温度：Max300℃ ■IHインバーター出力：キルン加熱、過熱蒸気共に2.5Kw ■温度制御 ：PID 制御 ■キルン容量 ：4L(※10Lサイズもあります) ■電気容量 ：3P 200V 30A ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
