ローカイド溶射
ローカイド溶射こそセラミック溶射の基幹技術であり大きな牽引力
ローカイド溶射は、溶融熱源に酸素-アセチレン炎を使用し、棒状に焼結加工された溶射材料を利用する方式です。溶融温度は、約3000℃。完全に溶融された粒子だけを、エアジェット流で加速・噴射します。装置の自由度が高く、複雑な形状の母材にピンスポットで溶射できる利点があります。詳しくはカタログをダウンロードしてください。
- 企業:日本コーティング工業株式会社
- 価格:応相談
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ローカイド溶射こそセラミック溶射の基幹技術であり大きな牽引力
ローカイド溶射は、溶融熱源に酸素-アセチレン炎を使用し、棒状に焼結加工された溶射材料を利用する方式です。溶融温度は、約3000℃。完全に溶融された粒子だけを、エアジェット流で加速・噴射します。装置の自由度が高く、複雑な形状の母材にピンスポットで溶射できる利点があります。詳しくはカタログをダウンロードしてください。