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薄膜形成からパターニング及びメッキ加工まで一貫したプロセスで対応可能！
薄膜形成技術は、物理的気相法（PVD）・化学的気相法（CVD）・液相法で分ける事ができます。豊和産業株式会社で対応可能な薄膜形成技術は、ガラス、シリコンウエハ、セラミックス、フィルム等のベース材に行う気相成長法の抵抗加熱・ＥＢ蒸着・スパッタリング・イオンプレーティングです。 液相成長法では、電解メッキ・無電解メッキ・ゾルゲル法を用いた加工対応ができます。光学・電子部品などを製作する際に応用する技術であり、使用目的・手段に合わせて膜選択や膜設計も致します。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
１枚からの成膜や異形サイズの基板への成膜も対応可能
PE-CVD成膜の受託加工を中心にスパッタ、イオンプレーティング、蒸着、 EB蒸着による成膜も行っております。 大口径基板への成膜も可能なターゲットもございますので、 お気軽にお問い合わせください。 その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問い合わせ下さい。
500社を超える実績、豊富な成膜加工ラインナップ。創業から100年、光学薄膜や微細加工技術でお客様の技術革新に貢献致します。
安達新産業は、単に成膜を実施するだけではございません。お客様のご要望の仕様に応じ、薄膜の設計から成膜プロセス・製品形状加工までトータルなご提案に対応可能な企業を目指しております。 このようなお困りごとは有りませんか？ ・光源や受光素子の性能で、特性を変化させることは可能ですか？ ・角度で特性が変化する場合、シミュレーション可能でしょうか？ ・まずは少量の試作で、製品特性を見たいです。 ・量産開始後に、効率的な提案をお願いできるでしょうか？ ・光学特性の不明なフィルターの測定をお願いできますか？ 【特長】 ■高い透過率、反射率 ■製品の安定性 ■各種基板への成膜 ■製品としてトータルにカバー ■少量試作対応可能（単品対応可能） ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
低温ＣＶＤは、１００℃以下での成膜や、異形サイズの基板へも、樹脂、フィルムなどの材質へも成膜可能。
PE=CVDのSiO2、SiNを中心に成膜の受託加工を行っております。 厚膜の熱酸化膜への対応、小数枚の熱酸化膜へのご要求にも 在庫品で対応できる場合がありますので、お気軽にお問い合わせください。 その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問い合わせ下さい。
