1枚からの成膜が可能 成膜加工(CVD)
低温CVDは、100℃以下での成膜や、異形サイズの基板へも、樹脂、フィルムなどの材質へも成膜可能。
PE=CVDのSiO2、SiNを中心に成膜の受託加工を行っております。 厚膜の熱酸化膜への対応、小数枚の熱酸化膜へのご要求にも 在庫品で対応できる場合がありますので、お気軽にお問い合わせください。 その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問い合わせ下さい。
- 企業:大村技研株式会社
- 価格:応相談
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低温CVDは、100℃以下での成膜や、異形サイズの基板へも、樹脂、フィルムなどの材質へも成膜可能。
PE=CVDのSiO2、SiNを中心に成膜の受託加工を行っております。 厚膜の熱酸化膜への対応、小数枚の熱酸化膜へのご要求にも 在庫品で対応できる場合がありますので、お気軽にお問い合わせください。 その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問い合わせ下さい。