未来を切り開くカーボン源用の原料ガス 原子吸光分析やダイヤモンドライクカーボン等、様々な用途に使用可能
『高純度アセチレン』は、精製されたアセチレンガスを容器に 充填したものです。 半導体の炭素原料、硬質炭素膜の生成原料や最近では、 カーボンナノチューブ等の新素材の原料ガスとして注目されています。 純度は、99.5％、99.9％、99.999％、99.9999％をご用意しています。 【特長】 ■精製されたアセチレンガスを容器に充填 ■純度は、99.5％、99.9％、99.999％、99.9999％をご用意 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【ラインアップ】 ■HA-2N5：純度99.5％ ■HA-3N：純度99.9％ ■HA-5N：純度99.999％ ■HA-6N：純度99.9999％ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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納期
用途／実績例
【用途】 ■原子吸光分析 ■コーティング用の硬質炭素膜（TiC、TiCN等） ■真空浸炭 ■ダイヤモンドライクカーボン（DLC） ■カーボンナノコイル（CNC）、カーボンナノチューブ（CNT） ■半導体 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
日本酸素G&W株式会社は、「ガス」「ウェルディング」 「自社ブランド開発」「エンジニアリング」「熱処理炉」「化学薬品開発・ 先端技術開発」などの事業を展開している、産業を支える製品を取り扱う 総合商社です。 お客様のご要望にお応えできる、付加価値のあるサービスを 提供してまいります。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。
