半導体関連装置向け解析シミュレーションソフト 無料紹介セミナー・随時開催中♪

工数・コスト削減に！薄膜生成、スパッタリング、プラズマエッチングなどの様々なシミュレーションに対応可能。導入後のサポートも安心。

当社では、半導体関連装置向けに特化した解析ソフトを取扱っています。 希薄流体解析ソフト、プラズマ解析ソフトをラインアップし、 有機ELやマグネトロンスパッタのシミュレーションで活躍中です。 「新商品開発をしたい」「製品改善時に実機(装置)を作って検証したい」 「事前検証,装置との比較検証をしたい」などでお困りの方に。 また、自社開発製品のため、導入後も手厚くサポートいたします。 【ラインナップ／特長】 《希薄流体解析ソフト『DSMC-Neutrals』》 ■非構造メッシュに対応しているため、複雑な形状の計算に対応 ■装置内全体のガス流れのシミュレーションが可能 《プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』》 ■低圧のプラズマシミュレーションが可能 ■プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• 分析・予測システム
• 科学計算・シミュレーションソフトウェア

低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解析ソフト

【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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『Particle-PLUS』 はプラズマ反応炉や化学蒸着(CVD)などのシミュレーションに適したプラズマ解析ソフトウエアです。

Particle-PLUSは、粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです。プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに有効なソフトです。二周波CCPや外部回路モデルなどの高度な物理モデルに対する解析も可能です。充実したサポートによりシミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことができます。プラズマを解析するのに粒子モデルを用い、電子・イオンを代表する粒子の運動を追跡するPIC / MC (Particle In Cell / Mote Carlo)法を採用しております。また、対象プラズマ密度に応じて比較的高密度では陰解法を、低密度では陽解法と使い分けることにより、複雑なモデルでも効率良く解くことができます。特に流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします。標準機能でのCCP、ICP、マグネトロンスパッタ計算はもちろんのこと、お客様の装置にあわせたカスタマイズも行っております。

• その他分析機器
• 科学計算・シミュレーションソフトウェア
• その他ソフトウェア

「シャワーヘッド型CVD」解析にも対応した 希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』

シャワーヘッド型CVD装置内のガス流れのシミュレーション解析 はじめ様々なシミュレーションに対応 【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※受託解析もしておりますので、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 科学計算・シミュレーションソフトウェア

ガス流れや薄膜生成のシミュレーションに。大規模形状でも短時間計算

当社では、半導体関連装置向けに特化した解析ソフトを取扱っています。 希薄流体解析ソフト、プラズマ解析ソフトをラインアップし、 有機ELやマグネトロンスパッタのシミュレーションに活躍。 お客様のニーズに合わせた対応も可能です。 【ラインナップ】 《希薄流体解析ソフト『DSMC-Neutrals』》 ■非構造メッシュに対応しているため、複雑な形状の計算に対応 ■装置内全体のガス流れのシミュレーションが可能 《プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』》 ■低圧のプラズマシミュレーションが可能 ■プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに この2つのシステムで、半導体製造における薄膜生成、スパッタリング、 プラズマエッチングなどの様々なシミュレーションに対応可能です。 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

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• 科学計算・シミュレーションソフトウェア

CIVIL NX × AI・API 耐震設計ワークフロー体験セミナー AIに設計判断を任せるのではなく、設計者の判断を支える「伴走パートナー」としてAI・APIを組み込むことで、手作業の負荷を減らしつつ信頼性の高い解析を実現するアプローチをご紹介します。 従来の操作手順を実際に体験していただくと同時に、最新技術を融合させた設計・解析フローを一手にご体感いただけます。 皆様のご参加を心よりお待ちしております。

国土交通省が進める「BIM/CIM」は可視化や合意形成で効果を上げる一方、設計・照査業務そのものの効率化には至っていないのが現状です。 こうした中、内閣府のBRIDGE施策では「土木設計データのパラメータ化・設計照査のオートメーション化」が進められています。令和8年度にはボックスカルバート・橋梁下部の標準パラメータが策定され、令和11年度からは中間ファイルが成果品として導入される可能性があり、この政府方針（Policy-Pull）への対応は急務です。 とはいえ「自社で高度な自動化システムを構築するのはハードルが高い」と感じる技術者の方も多いのではないでしょうか。 本セミナーは「AIの一般論」ではなく、実務に直結する二つの変化（過年度のフレーム構造計算データを生成AIで復元し解析モデルを自動作成する取り組みと、これまで一部の技術者しか扱えなかったPlug-In開発を生成AIに任せて誰でも作れるようになった事例）を、実演を交えてご紹介します。 「開発は専門家のもの」という前提が変わりつつある今、その第一歩を体感いただける内容です。 皆様のご参加を心よりお待ちしております。

■基礎操作からモデリング作成・解析まで学習 FEM解析をこれから始めたい方や、「まずはFEM解析ソフトを実際に操作してみたい」とお考えの方、また、すでにFEA NXをご利用中で「操作に不安がある」「基礎からあらためて学び直したい」と感じている方を対象にした入門セミナーです。 WEB開催となるため、遠方の方や当日ご都合が合わない方にも、当日は終日オンデマンドでご視聴いただけます。ご自身のご都合に合わせたタイミングで、FEA NXをご体験いただけます。 本セミナーでは、以下の内容を中心に、実際に手を動かしながら操作を体験いただきます。

パラメータ調整、まだ手作業で繰り返していませんか。 もしくは、トンネル掘削の3次元解析を外注に頼り、社内にノウハウが蓄積されないままになっていませんか。 今回のセミナーは、設計の実務に即した「2次元地盤解析」から、インフラ整備に不可欠な「トンネル掘削FEM解析」まで、地盤解析の最前線を1日で網羅できる特別プログラムです。 基礎から3次元の実務まで、通しで体験いただける構成となります。 各セッションでは、以下の通り専門ソフトを用いた実践的な演習を行います。 テーマA.SOILWORKS（2次元地盤解析の基礎と実践） テーマB.FEA NX（トンネル掘削FEM解析と数値最適化） 一括でのお申し込みはもちろん、ご自身の業務課題に合わせて必要なテーマのみを選択して受講いただくことも可能です。

IBM i(旧AS/400)を長年運用する企業では、担当者不足、影響範囲の不透明化、属人化、開発遅延など、事業継続に直結する課題が深刻化しています。全面刷新は高コスト・高リスクだが、現行維持にも限界がある─多くの企業がこのジレンマに直面しています。本ウェビナーでは、DB2 for i資産を活かしながら段階的に改善できる「データモデル設計」と「ローコード基盤 楽々Framework3」による実践的アプローチを紹介します。ブラックボックス化の解消、開発効率向上、人材不足への対応など、刷新に踏み切れない企業でも確実に前進できる“現実的な選択肢”を提示しており、「自社はどこから着手すべきか」「全面刷新と段階的改善のどちらを選ぶべきか」「現行資産をどう活かすべきか」といった検討段階の企業様にも参考となる考え方や進め方を紹介します。 ～このような方におすすめ～ ・IBM i運用に不安を抱える方 ・属人化・ブラックボックス化を解消したい方 ・モダナイゼーションの進め方に迷っている方 ・全面再構築が難しく段階的刷新を求める方 ・少人数で保守・開発を続けたい方 ・IBM i資産を活かしてDXを推進したい方