レジスト - 企業ランキング(全6社)

更新日: 集計期間:2026年07月22日〜2026年08月18日
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会社名 代表製品
製品画像・製品名・価格帯 概要 用途/実績例
■□■特徴■□■ ■導電性のある面ならばレジスト膜を均一に形成することができる ■端面や角部を含め、立体形状全体にフォトエッチング加工が施せる ■メッキと電着レジストの技術を併せることで、三次元基板に   セミアディティブ法も応用できる ■□■用途■□■ マイクロエレクトロニクス製品や光学製品を はじめとする様々な分野での試作・開発に貢献
■□■特徴■□■ ■導電性のある面ならばレジスト膜を均一に形成することができる ■端面や角部を含め、立体形状全体にフォトエッチング加工が施せる ■メッキと電着レジストの技術を併せることで、三次元基板に   セミアディティブ法も応用できる ■□■用途■□■ マイクロエレクトロニクス製品や光学製品を はじめとする様々な分野での試作・開発に貢献
【用途】 ■流路 ■スタンパー ■セル隔壁 など 【用途】 ■流路 ■スタンパー ■セル隔壁 など
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  1. 代表製品
    電着レジスト電着レジスト
    概要
    ■□■特徴■□■ ■導電性のある面ならばレジスト膜を均一に形成することができる ■端面や角部を含め、立体形状全体にフォトエッチング加工が施せる ■メッキと電着レジストの技術を併せることで、三次元基板に   セミアディティブ法も応用できる
    用途/実績例
    ■□■用途■□■ マイクロエレクトロニクス製品や光学製品を はじめとする様々な分野での試作・開発に貢献
    電着レジスト電着レジスト
    概要
    ■□■特徴■□■ ■導電性のある面ならばレジスト膜を均一に形成することができる ■端面や角部を含め、立体形状全体にフォトエッチング加工が施せる ■メッキと電着レジストの技術を併せることで、三次元基板に   セミアディティブ法も応用できる
    用途/実績例
    ■□■用途■□■ マイクロエレクトロニクス製品や光学製品を はじめとする様々な分野での試作・開発に貢献
    『高アスペクト比レジスト』加工技術紹介『高アスペクト比レジスト』加工技術紹介
    概要
    【用途】 ■流路 ■スタンパー ■セル隔壁 など
    用途/実績例
    【用途】 ■流路 ■スタンパー ■セル隔壁 など