電子線照射システム『EBラボ200』
電子線による実験・品質管理試験に活躍。最大加速電圧200keV、最大照射線量950kGy。酸素濃度を50ppmまで低減可能
『EBラボ200』は、真空密閉型の電子線照射ランプを搭載し、 加速電圧80～200keV、最大照射線量950kGyの電子線照射を行える装置です。 窒素ガスによる不活性化で50ppmまで酸素濃度を低減でき、 酸素に敏感な物質も扱うことができます。 放射線を完全に遮蔽しており、個人線量計が不要です。 警報ランプや非常停止ボタンなども搭載しています。 【特長】 ■操作しやすい17インチの大画面 ■対応サンプルサイズ：A4サイズ（216mm×297mm）、厚さ50mm ■幅広いサイズに対応可能なテストサンプルホルダー ■テストパラメーターの詳細記録が印刷・ダウンロード可能 ■信頼性の高いメモリー機能付きPLC制御 ■真空ポンプ不要、照射窓箔、カソード又はケーブルの交換不要 またモノマテリアルフィルムの開発においては電子線照射による機能改善だけでなく、 １軸延伸による強度向上という別の方法もございます。 湘南貿易では１軸延伸による強度向上に好適なCollin社のラボ用延伸装置も取り揃えております。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社湘南貿易
- 価格：応相談
