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金型およびワーク冷却＋プレス機からの粉塵除去！作業環境の改善も図れた事例
当社では、金型を適正な温度に冷却できる装置と、周囲環境を改善できる 集じん装置をご提供いたします。 冷却液の温度管理に加えて、プレス機から発生する粉じんの除去による 作業環境の改善も図れます。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【事例概要】 ■課題 ・金型を適正な温度に冷却したい ・プレス時に飛散する塵埃を無くしたい ■効果 ・冷却液の温度管理が可能 ・プレス機から発生する粉じんの除去 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
液温制御範囲5～35℃と幅広い用途に対応した水槽内蔵DCインバーターチラー
『RKE1500B1-V-G2』は、30%以上の省エネと圧縮機回転制御方式で 温度制御制度±0.1℃の高精度を両立した冷却水循環装置です。 液温制御範囲5～35℃と幅広い用途に対応。 ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、 プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適します。 【特長】 ■30%以上の省エネと圧縮機回転制御方式で温度制御制度±0.1℃の 高精度を両立 ■液温制御範囲5～35℃と幅広い用途に対応 ■ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、 プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適している ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
液温制御範囲5～35℃と幅広い用途に対応した水槽内蔵DCインバーターチラー
【30日間レンタル・61,000円～】 弊社では本製品のレンタル取次ぎサービスを行っております。 御希望の方はお問合せフォームから御連絡願います。 追って担当者から御連絡差し上げます。 （レンタル時には利用約款への同意が必要です。） 『RKE1500B1-V-G2』は、30%以上の省エネと圧縮機回転制御方式で 温度制御制度±0.1℃の高精度を両立した冷却水循環装置です。 液温制御範囲5～35℃と幅広い用途に対応。 ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、 プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適します。 【特長】 ■30%以上の省エネと圧縮機回転制御方式で温度制御制度±0.1℃の 高精度を両立 ■液温制御範囲5～35℃と幅広い用途に対応 ■ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、 プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適している ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現している大型水槽付チラーのご紹介！
『RKE3750B-V-G2』は、業界トップクラスの省エネ性能を実現している 冷却水循環装置です。 冷凍機・ファン・ポンプもインバーター制御。 周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現しています。 ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、 プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適します。 【特長】 ■業界トップクラスの省エネ性能を実現 ■冷凍機・ファン・ポンプもインバーター制御 ■周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現 ■ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、 プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適している ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現している大型水槽付チラーのご紹介！
【30日間レンタル・154,000円～】 弊社では本製品のレンタル取次ぎサービスを行っております。 御希望の方はお問合せフォームから御連絡願います。 追って担当者から御連絡差し上げます。 （レンタル時には利用約款への同意が必要です。） 『RKE3750B-V-G2』は、業界トップクラスの省エネ性能を実現している 冷却水循環装置です。 冷凍機・ファン・ポンプもインバーター制御。 周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現しています。 ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、 プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適します。 【特長】 ■業界トップクラスの省エネ性能を実現 ■冷凍機・ファン・ポンプもインバーター制御 ■周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現 ■ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、 プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適している ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
