AQM社 H-SiOx 粉体のレジスト
電子ビーム描画装置、EUV露光装置、ナノイン・プリントリソグラフィー向け粉体のレジスト
AQM社のH-SiOxは粉体の状態で長期保管可能で、 使う前に溶媒と混合して使用可能なネガ型レジストです。 既に溶媒に混合されたプレミックスタイプと比較すると、増粘することが無いので常に同じ膜厚を形成でき、 さらに粘度調整が可能なので、様々な膜厚を作成できます。 また、シェルフライフ（保管期間）が1年間と長いので、廃棄する無駄が少なく経済的なレジストです。 最近のテストでは7nmの線幅を実現しました。 【特徴】 ・長期間の保管が可能（1年間） ・いつでも同じ粘土で使用可能・・・使用前に溶媒と混合して使用するので増粘しません。 ・粘土を調整することで幅広い範囲の厚さの膜を作成可能 ・5nmの膜厚、7nmの解像度 ・廃棄量の削減・・・少量単位での購入可能です。 ・充実したサポート体制 ・優れたLER（Line Edge Roughness） ・ドライエッチングに対する強い耐性 詳しくはカタログをご覧いただくか、 弊社担当 北野までご連絡ください。
- 企業：オプトシリウス株式会社
- 価格：応相談
