小型真空リフロー炉 TR-200-300
【観察×真空×高速昇降温】試作条件出しを社内で完結!研究開発者 待望の卓上型真空リフロー炉
外注依存や大型設備の空き待ちによる開発スピードの遅延を解消! 「小型真空リフロー炉 TR-200-300」は、BGA・パワー半導体・先端パッケージの試作評価や接合条件出しを、卓上設置で内製化するために開発された研究開発向け装置です。真空環境・雰囲気制御・温度プロファイルを独立して高精度にコントロールし、これまで大型設備でしか行えなかった高度な接合プロセス検討を卓上で再現します。 ◆実用新案出願済「リフティングデバイス」搭載 ◆大型ガラス窓によるプロセス観察 ◆真空&窒素(N₂)雰囲気対応でボイド・酸化を大幅低減 ◆研究開発・試作現場に導入しやすい卓上コンパクト設計 ◆PC接続によるパラメータ設定・データ収集
- 企業:株式会社タイセー 本社
- 価格:100万円 ~ 500万円