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ウシオの光で出来ること『不純物拡散』
統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例（不純物拡散）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：クセノンフラッシュランプ・ハロゲンヒータランプ ○半導体工程において、ソースドレインにインプラントを行い その後、アニール工程によってドーピングした不純物を活性化 ○クセノンフラッシュランプの特性を活かし ミリ秒単位という短時間で今までの活性層の深さに比較して 極めて浅い部分（nmオーダー）を高温アニールし 不純物の拡散を防ぐことが可能 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。
高効率／省エネルギー！基板の熱ダメージを最小限に抑え、表層のみ加熱することが可能
大面積基板への一括照射による高スループットを実現可能な 『フラッシュランプ』についてご紹介します。 当製品による光加熱は、物質の持つ「反射」、「透過」、「吸収」の 特性のうち、「吸収」の特性を利用して自己加熱させるものです。 また、非接触であるためクリーンな雰囲気を保ち、大気中・真空中など 加熱雰囲気も問いません。 【特長】 ■大面積一括照射 ・大面積基板への一括照射による高スループットを実現可能 ■高効率／省エネルギー ・当製品からの波⻑はSiの吸収特性に合致するため、効率よく昇温が可能 ■パルス制御による処理深さのコントロール ・基板の熱ダメージを最小限に抑え、表層のみ加熱することが可能 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
