「Yano E plus」2018年2月 次世代ナノインプリント
定期刊行物「Yano E plus」の 2018年2月号です。
◆トピックス◆ 《次世代市場トレンド》 ●次世代ナノインプリント技術動向 ～エポックメイキングな技術的ブレークスルーに 先ず半導体微細化の壁を突き破り、光学やバイオなどへ フォトリソグラフィーからナノインプリントへ 半導体製造におけるフォトリソグラフィー・プロセスは、フォトマスクと呼ばれる原版に描画された回路パターンを、露光装置を通して半導体基板上のレジストに転写し、エッチングマスクを形成する技術であり、これまでの半導体製造プロセスの中核技術として半導体産業の発展を支えてきた。 回路パターンの微細化の進展に対しては、露光する光源の波長を短くしたり、さらに、他のさまざまな技術を駆使することで対応してきたが、加工可能なパターン線幅は、原理的にも技術的にも限界に近づいてきている。 たとえば、最近では、複数回に分けて露光するマルチパターニング技術が実用化されているが、従来に比べ複雑かつ多くのプロセスを経ることから、コスト増の要因となっている。。。。 資料体裁：B5判約100～130ページ 発刊頻度：月1回発刊（年12回） 販売価格：97,142円(税別)(1ヵ年)
- 企業：株式会社矢野経済研究所
- 価格：応相談
