更新日： 集計期間:2026年01月14日～2026年02月10日
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信頼性解析ツール Reliability Workbench の活用により、ISO26262に準じた機能安全設計をスムーズに実施
Reliability Workbenchは、信頼性工学に基づき、信頼性、安全性等を分析するためのソフトウェアです。 信頼性予測モデルによる故障率の設定、フォルトツリー分析（故障の木分析）などの機能の活用により、定量的な安全性分析を可能にするとともに、ISO26262に準じた機能安全設計のスムーズな実施を支援します。
梁上部とスラブをスラブコンクリート強度にて同時に打設するプレキャスト工法
『NSビーム工法』は、梁上部に床スラブと同一強度のコンクリートを 打設して構成される構造であり、コンクリートの打ち分けに必要とされる 止め型枠本体の材料や止め型枠を設置するための作業手間が削減でき、 施工の合理化・省力化が図れる工法です。 本工法の設計・施工指針に従って作製された梁は、使用限界時に使用上の 支障および損傷限界時に修復性を損なう損傷が生じません。 また、安全限界時に同指針で定める終局強度と変形性能を有することが、 構造性能実験によって確認・証明されました。 本工法は、日本建築総合試験所から建築技術性能証明を取得しています。 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
この環境を後世に伝えたい。あなたのカーボン・オフセットのパートナー
当社では、持続可能な森林経営促進型プロジェクト、 「ナカエの森 地球がよろこぶ森林プロジェクト」を展開しております。 日本の国土の1/6,000(合計6,458ha)におよぶ「ナカエの森」。 森林のCO2吸収量をJ-VER/J-CREDITとして販売。J-VER/J-CREDIT(森林吸収 クレジット)のご購入で、カーボン・オフセットを行えます。 J-CREDIT販売で得た資金は、森林の育成・整備にかかる費用の一部を補い、 持続可能な森づくりに活かされております。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【持続可能な森づくり】 ■森林整備 ・植林、下刈り、枝打ち、間伐、主伐、路網開設などの森林整備 ■調査研究 ・樹木の胸高直径や樹高の測定、下層植生などのモニタリング ■生物多様性の保全等 ・温室効果ガス削減、生物の多様性、山地災害の防止、保水能力の向上 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
構造設計の耐衝撃性、安全性、および製造性を向上させるために、世界中のあらゆる業界で使用されています。
Altair Radiossは、衝突解析や破壊解析などの高度な非線形動的問題を扱うために開発された先進的な構造解析ソルバーです。並列計算のスケーラビリティ、解析精度、解法のロバスト性において優位性を持ち、マルチフィジックスシミュレーション機能や複合材モデリング機能を備えています。Radiossは、世界中の様々な産業において、耐衝撃性や安全性の改善および生産技術課題を扱うソルバーとして活用されています。 ＜製品の主な特長＞ ・大規模で高度な非線形動的問題を扱うために最適化された並列計算のスケーラビリティ ・多種多様な材料則・破壊則ライブラリ ・高精度エアバッグシミュレーションに特化した独自機能 ・豊富なマルチフィジックス解析機能 ・ダミー、バリア、インパクターなどの有限要素、自動車安全解析用モデル
見えないリスクにも対応し作業者の健康を守る「VP-Ergono」活用事例
瞬間的に負担のかかる作業を行う物流業において、日々の負荷が蓄積され重大な健康被害が発生する可能性があります。複雑な作業ではないからこそ、個々人の姿勢の違いが発生し、後々大きな差が開いてきます。 あらゆる場面の作業姿勢を解析し、安全な作業姿勢を指導することで、見逃されてきた見えないリスク発生を抑え、作業者の健康を守ることに繋がります。 ↓↓物流における活用事例の動画をご紹介しています。 ■負荷解析について 『解析した負荷の数値を指標化してわかりやすく表示』 一連の作業動作で《負荷が高い姿勢》をとったり、継続して行った場合「どのくらいの負荷なのか？」ではなく「どの程度有害であるか？」を『OWAS法』の改善要求度に準じて4段階評価で分析・表示します。 『各関節ごとへの負荷を解析して総合的に判断』 人体の主要関節10ヶ所の負荷を解析して作業時に体感として強く感じる「背部」「上肢」「下肢」の負荷状態として分析。総合的な改善要求度として判断しやすい指標で表示します。
『Particle-PLUS』 はプラズマ反応炉や化学蒸着(CVD)などのシミュレーションに適したプラズマ解析ソフトウエアです。
Particle-PLUSは、粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです。プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに有効なソフトです。二周波CCPや外部回路モデルなどの高度な物理モデルに対する解析も可能です。充実したサポートによりシミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことができます。プラズマを解析するのに粒子モデルを用い、電子・イオンを代表する粒子の運動を追跡するPIC / MC (Particle In Cell / Mote Carlo)法を採用しております。また、対象プラズマ密度に応じて比較的高密度では陰解法を、低密度では陽解法と使い分けることにより、複雑なモデルでも効率良く解くことができます。特に流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします。標準機能でのCCP、ICP、マグネトロンスパッタ計算はもちろんのこと、お客様の装置にあわせたカスタマイズも行っております。
■全身毛細血管を驚きの720倍で鮮明観察 ■流速定量化・画像解析ソフトで臨床研究・エビデンス取得に貢献
・光学拡大の720倍。驚きの鮮明さ！ ・当社独自の無反射観察法（特許出願中） ・動く被写体が歪まないグローバルシャッター ・Windowd Mac iPad にも接続できます。 ・USBバスパワー1本でパソコンに接続 ・Zoomアプリで遠隔観察もできます ・シリーズ15周年3,000台以上の導入実績 ・定量化・論文化ソフトで臨床研究に貢献 ・ハード、ソフトともに国際学術論文あり ・全身どこでも同一モードで鮮明観察 ・開発・製造・販売すべて自社一貫体制
分析を、ビジュアルに、インタラクティブに。
SASが開発したJMPは、科学者やエンジニアを始め各種業界や政府部門でデータ探索を行う人々により、統計的発見を実現するためのツールとして利用されてきました。JMPは、ダイナミックなデータの可視化とパワフルな統計機能を併せ持ち、インメモリで処理を行うデスクトップ用ソフトウェアです。対話的かつビジュアルなJMPにより、単なる数値が並んだ表や静的なグラフからは得られない洞察を得ることが可能です。 JMPでは、グラフ、統計、データのすべてがリンクされています。このため、思考を深く掘り下げることができ、画期的な発見がもたらされます。JMPでは、流れに乗って次々に分析を実行することができます。分析フローの流れに乗ったまま探索することができ、新しい疑問がわいたときもコマンドを実行し直す必要がありません。 JMPを使用すれば、データ分析の効率が格段に向上し、日常業務や難しい統計的な問題を簡単にこなせる上、分析結果を効果的に伝えることができます。
工数・コスト削減に！薄膜生成、スパッタリング、プラズマエッチングなどの様々なシミュレーションに対応可能。導入後のサポートも安心。
当社では、半導体関連装置向けに特化した解析ソフトを取扱っています。 希薄流体解析ソフト、プラズマ解析ソフトをラインアップし、 有機ELやマグネトロンスパッタのシミュレーションで活躍中です。 「新商品開発をしたい」「製品改善時に実機(装置)を作って検証したい」 「事前検証,装置との比較検証をしたい」などでお困りの方に。 また、自社開発製品のため、導入後も手厚くサポートいたします。 【ラインナップ／特長】 《希薄流体解析ソフト『DSMC-Neutrals』》 ■非構造メッシュに対応しているため、複雑な形状の計算に対応 ■装置内全体のガス流れのシミュレーションが可能 《プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』》 ■低圧のプラズマシミュレーションが可能 ■プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、RFマグネトロンスパッタの『Particle-PLUS』解析事例
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、DCマグネトロンスパッタ『Particle-PLUS』解析事例
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
「Particle-PLUS」は 真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、高速に成膜速度などのシミュレーション実施可能です
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
『Particle-PLUS』はマグネトロンスパッタ装置を得意とする 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析が可能です ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして 標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、 お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
長い円筒の内側に強い膜を成膜する方法のひとつである、円筒標的を用いたマグネトロンスパッタの『Particle-PLUS』解析事例
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「対向ターゲット式スパッタ」
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
「Particle-PLUS」での解析事例紹介 Particle-PLUSでは重畳2周波CCPの計算も可能です。
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
Particle-PLUS解析事例紹介 "対面ターゲットを用いたAl薄膜作製"シミュレーション事例
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
Particle-PLUS解析事例紹介 "イオンビームの質量分析と静電加速"シミュレーション事例
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
製造業での形成プロセスの広い分野で、データ入力と結果表示用に使用。
汎用グラフィカルソフト GiDは、今日、板金、型充填、鋳造での凝固・冷却、粉体凝縮、鍛造・圧延などの製造業での形成プロセスの広い分野で、データ入力と結果表示用に使用されています。 GiD は単純かつ効率的な方法で解析の為のDXFやIGESフォーマットの複雑なCAD形状データ取り込みができ、また必要インプットデータの生成ができます。GiD の表示機能は、各解析の重要な結果を表示できるようにカスタマイズできます。変形形状のアニメーション、応力等高線図、線図、形成制限図などを表示できます。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
東京エレクトロン株式会社 吉備 和雄様へのインタビュー記事をご紹介します！
CAEやCFDが世の中の役に立っている情報や興味を引く適用事例などの情報を、ANSYS, Inc.及びアンシス・ジャパン株式会社発行の情報誌「ADVANTAGE」の記事を中心にご紹介させていただきたいと思います。 今回は、東京エレクトロン株式会社 吉備 和雄様へのインタビュー記事をご紹介します。 同社は、半導体製造装置メーカーとして、国内トップ、世界第三位のシェアを持っています。 長年のANSYS Fluentユーザーである同社は、 製造装置の中で起きている現象の解明や予測にシミュレーションを活用されています。 設計の上流から下流までシミュレーションソフトウェアを活用していますが、 いま、経営陣からはもっと難しい「試作を作らない」というミッションを与えられています。 試作するには莫大なコストと時間がかかります。 そのため、試作を作らずにすめば 非常に大きな経済的、時間的なメリットが得られることは間違いありません。 ※詳細はPDFダウンロードしていただくか、お問い合わせください
R＆Dの材料開発で活用！業務効率化と迅速な製品開発を推進した事例をご紹介
サンスター株式会社様へ、『Prediction One』を導入した事例を ご紹介いたします。 同社では、防腐効力試験にかかる時間・労力・費用を縮減したい という課題がありました。 導入後は、業務効率化と迅速な製品開発を推進しました。 【事例概要】 ■課題 ・防腐効力試験にかかる時間・労力・費用の縮減 ■効果 ・業務効率化と迅速な製品開発の推進 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解析ソフト
【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解析ソフト
【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
「マテリアルズインフォマティクス」に有効な材料開発シミュレーションソフトウェア 『Materials Studio』
ツールを活用し連携する事により、より効率よく、より簡単に、 新規材料開発に役立ちます。 ■「マテリアルズインフォマティクス」にも最適 量子力学、古典力学、メソスケール、統計、分析/結晶化ツールを備えた 次世代材料開発向け分子モデリング/シミュレーションツール群です。 【特長】 ■材料開発を効率化するシュミレーションソフト 業界分野を問わず、研究、開発、設計、製造に従事される方にご利用いただけます ■さまざまなタイプの材料に対応 ■一つのGUI画面上で、結晶構造の作成、計算条件設定、計算結果表示の 全てを行うことが可能 【事例】 トライボケミカル(潤滑)反応 CFRP(炭素系素材)などの解析 結晶成長や薄膜形成、燃料電池、潤滑剤 触媒、ポリマー、混合物、金属や合金、電池や燃料電池など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。 株式会社ウェーブフロント 営業部 MAIL: sales@wavefront.co.jp URL: http://www.wavefront.co.jp/
「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「AC マグネトロンスパッタリングシミュレーション」
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
毛細血管スコープのGOKO Bscan-ZDで自社の健康機器（温熱、水素・酸素吸引機）での血流変化の効果を可視化・定量化します。
・光学拡大の720倍。驚きの鮮明さ！ ・当社独自の無反射観察法（特許出願中） ・Windows Mac iPad にも接続できます。 ・USBバスパワー1本でパソコンに接続 ・Zoomアプリで遠隔観察もできます ・2006年よりシリーズ3,000台以上の導入実績 ・定量化・論文化ソフトで臨床研究に貢献 ・ハード、ソフトともに国際学術論文あり ・全身どこでも同一モードで鮮明観察 ・開発・製造・販売すべて自社一貫体制
毛細血管スコープのGOKO BscanーZDで自社の健康食品、医薬品での血流変化の効果を可視化・定量化します。データ解析受託も。
・光学拡大の720倍。驚きの鮮明さ！ ・当社独自の無反射観察法（特許出願中） ・Windows Mac iPad にも接続できます。 ・USBバスパワー1本でパソコンに接続 ・Zoomアプリで遠隔観察もできます ・2006年よりシリーズ3,000台以上の導入実績 ・定量化・論文化ソフトで臨床研究に貢献 ・ハード、ソフトともに国際学術論文あり ・全身どこでも同一モードで鮮明観察 ・開発・製造・販売すべて自社一貫体制 ・第三者での治験データ解析をGOKOが受託します（血流速、血管面積など変化を定量化します）
